Occasion NIKON NSR 2005 i8A #9138101 à vendre en France
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Vendu
ID: 9138101
Stepper,
PC model
NEST modify : MSC2
Software
Version : 2.4D
Reticle
(5) Size
Material : Quartz
Thickness : 0.09"
Changer type : Multi
Wafer
(6) Size
Standard : JEIDA
Orientation flat / Notch : OF
Optical system
Magnification : ( 1/5 )×
Field size : (20.0×20.4mm)
NA : ( 0.5 )~( )
Wavelength : i Line
Illumination system
Illuminant : Mercury lamp
Exposure time control : integrating Exposure control
Masking function
Wafer loader
Type : Type Ⅰ
Reticle alignment
Alignment light : Other(HeNe Laser, halogen lamp )
Type : CCD imaging, image treatment
XY stage
Type : Linear Motor Drive、triaxial interferometer
Stroke : X( 200mm )~( )/Y( 200mm )~( )
Wafer leveling
Type : Biaxial linear motor drive
TV pre-alignment
Type : Image treatment
Reticle feeder
(14 ) Sheet reticle storage
Reticle particle inspection
Type : Laser beam
Unit name : PD5(Broken)
Chamber
Cooling type (air cooling) on T/C : S85L
T/C Air cooling type : Cooling unit/inner Heater type
T/C liquid cooling type : Cooling unit/inner Heater type
T/C liquid-temp control unit : Stage
Camera
Type : CCD
FIA
LSA
Inline : Stand alone
1992 vintage.
NIKON NSR 2005 i8A est un équipement de lithographie en ultraviolet profond conçu pour la production à haute résolution de photomasques et de puces semi-conductrices. Doté d'un objectif de réduction à grand champ plat de 8 pouces en alternance, NIKON NSR 2005I8A est conçu pour soutenir la fabrication de motifs de moins de 100nm. Avec une ouverture réglable jusqu'à 32 microns, et un système auto-focus pour l'alignement fin, NSR-2005I8A est capable de produire le plus fin des procédés lithographiques de haute précision. NIKON NSR-2005 I8A Wafer Stepper peut accélérer les processus de lithographie à haut volume, offrant une vitesse d'écriture maximale de 4 mètres/seconde. L'unité pas à pas supporte des couches minces de résistance jusqu'à 400nm, permettant une variété de procédés autrement difficiles à réaliser sous 100nm. En outre, la machine dispose également d'une machine d'alignement multi-champs et multi-axes qui élimine la nécessité d'un alignement masqué coûteux. L'outil pas à pas est complété par un étage propriétaire de haute précision en V avec un codeur mécanique qui peut mesurer avec précision le mouvement de l'étage. Les capacités automatisées de balayage des étages permettent l'alignement de champs multiples en utilisant des paramètres stockés dans la machine avant chaque opération d'étape. Le pas de plaquette est également équipé d'un positionneur Z haute résolution surmonté d'un réchauffeur optique, permettant un contrôle précis de la température de la plaquette. Construit avec un objectif à champ plat et à immersion dans l'huile, NSR-2005 I8A est particulièrement adapté aux résistances à grande surface pour répondre aux exigences de précision strictes des processus semi-conducteurs. La conception de l'immersion d'huile rend également la machine à l'abri des problèmes de vibrations et peut également être utilisée dans les processus de lithographie multi-couches de résistance. NIKON NSR-2005I8A Wafer Stepper propose également une variété de technologies innovantes. Il supporte les revêtements antireflets, les capacités de gestion des réticules avancées, les opérations entièrement automatisées et un haut niveau d'intégration des processus pour une production efficace. Il est également soutenu par une gamme d'options spécialisées en optique, y compris une gamme de longueurs focales et des variations partielles de cohérence, permettant aux utilisateurs de faire les meilleurs processus de lithographie avec des résultats cohérents et reproductibles.
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