Occasion ULTRATECH 1100 #130601 à vendre en France

ULTRATECH 1100 est un pas de plaquette de pointe fabriqué par Mapper Lithography. Cette machine photolithographique automatisée est capable d'exactement graver des dessins de précision à l'eau forte sur le semi-conducteur substrates avec les grandeurs de trait variant de 0.5μm en bas à quelques nanomètres. Grâce à la technologie basée sur la lithographie à immersion liquide Meta « Ultrafast », 1100 est en mesure d'obtenir un tel détail en projetant la lumière à travers une lentille immergée de projection. Cette lentille est capable de projeter un faisceau uniformément focalisé sur un large champ de vision. Le système de balayage ULTRATECH 1100 est conçu pour suivre une trajectoire cartésienne, et peut atteindre des vitesses allant jusqu'à 2000mm/s avec une précision répétable de ± 3 μ m. La machine de balayage intègre en outre une correction d'aspect dynamique qui assure une représentation précise du motif projeté, quelle que soit la taille du substrat. 1100 est équipé d'une grande plaque de masque reconfigurable et offre deux modes d'imagerie : un mode photomask et un mode générateur de motifs numériques. Le mode photomask permet à l'utilisateur de télécharger une mise en page photomasque sur la machine et l'imagerie suivra avec précision cette conception. En mode numérique, l'imagerie se fait à la volée, ce qui permet de produire à la volée des géométries complexes. ULTRATECH 1100 supporte en outre une large gamme de matériaux de revêtement et de gravure pour permettre la fixation précise d'une variété de substrats. En effet, il supporte des photorésistes tels que SU-8, Polyimide et BCB ainsi que des matériaux de gravure sèche tels que le Silicium Tungstène, SiO2 et Si3N4. 1100 dispose d'une caméra CMOS 10MP pour l'imagerie haute résolution, permettant aux utilisateurs de vérifier les résultats du processus en temps réel. La caméra peut également être utilisée pour effectuer des inspections OCR en ligne et des défauts. Dans l'ensemble, ULTRATECH 1100 est un pas idéal pour la recherche sur les semi-conducteurs et la haute production, en raison de ses capacités d'imagerie de précision, plaque de masque reconfigurable, large gamme de matériaux de revêtement et de gravure, balayage rapide et correction d'aspect dynamique.