Occasion DNS / DAINIPPON SU-3100 #9129361 à vendre en France

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ID: 9129361
Style Vintage: 2012
Wet station, 2012 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3100 Wet Station est une station DMA avancée utilisée pour la recherche en nanotechnologie haute performance et la conception d'appareils électroniques. La station est équipée d'un équipement de lithographie multicouche et d'un ensemble de procédés avancés tels que le dépôt de la couche atomique, la gravure des ions réactifs, le dépôt chimique en phase vapeur, le dépôt chimique en phase vapeur renforcée par plasmique et la pulvérisation. Il est capable de modeler des métaux, des polymères et des diélectriques avec une grande précision et résolution. La station utilise un système d'imagerie directe laser (LDI) pour un alignement précis des masques. L'unité utilise un laser à diode micro-foyer de précision d'une puissance de 6 W et d'une intensité allant jusqu'à 50 mW/cm2 pour projeter un masque qui peut être exactement aligné sur le motif désiré. Le moteur à boucle fermée XY permet une grande précision et un alignement de précision. La machine LDI peut atteindre des résolutions jusqu'à 250 nanomètres et peut accueillir une gamme de tailles de masques jusqu'à 600 x 600 mm. La station humide utilise également un procédé de lithographie multicouche pour fabriquer des circuits intégrés. Son faisceau d'électrons à balayage met en œuvre avec précision et résolution des caractéristiques d'échelle nanométrique à la surface d'un substrat. Pour ce faire, on applique d'abord un masque de résistance sur le substrat, puis on imite directement le masque par laser sur le substrat. L'outil utilise alors une combinaison de méthodes de gravure ionique réactive ou de dépôt chimique en phase vapeur pour transférer le motif du masque sur le substrat. La station contient également plusieurs systèmes d'élimination des contaminants capables de maintenir la pureté de l'environnement du procédé. Une circulation liquide sans effort desmear et un refroidisseur de minifluides sont utilisés avant traitement afin de diminuer les chances de particules d'entrer dans le procédé. La station possède un atout intégré pour la filtration et la recirculation du fluide utilisé dans les processus humides, ainsi qu'un modèle d'élimination de l'ozone et un équipement de cryo-recirculation avec un filtre de 0,2 µm. Ces systèmes permettent de prévenir la contamination du substrat traité et d'augmenter la fiabilité et la durée de vie du dispositif. DNS SU-3100 Wet Station est une station avancée pour la nanofabrication et la conception d'appareils. Il offre une plate-forme sophistiquée pour la recherche et le développement en raison de sa haute précision et résolution, des systèmes d'élimination de la contamination et des options de lithographie multicouche.
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