Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #101454 à vendre en France

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ID: 101454
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
LPCVD furnace, 8", 1998 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Le four de diffusion Alpha 8S est un système de chauffage de substrat polyvalent conçu pour des applications industrielles dans l'industrie manufacturière. TEL ALPHA-8S contient deux zones distinctes : une chambre de procédé, utilisée pour former des substrats, et la chambre de refroidissement qui est utilisée pour le refroidissement à grande vitesse. La chambre de procédé dispose d'éléments chauffants haute densité pour un chauffage rapide et uniforme du substrat. Une plage de température de 50 à 1200 ° C est obtenue de manière fiable grâce à un thermocouple Molybdène-Rhodium, assurant un contrôle précis de la température tout au long du processus. La température peut être contrôlée via un panneau tactile, ou un contrôleur logique programmable (PLC). TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S est construit avec un suscepteur de quartz SC5, et a une taille maximale de substrat de 300 x 300mm. Ceci assure une homogénéité de surface supérieure et une diffusion thermique uniforme pour améliorer le détail du substrat, tout en évitant efficacement les dommages et les distorsions causés par les contraintes thermiques. La chambre de refroidissement est équipée d'une technologie de refroidissement avancée, offrant des vitesses de refroidissement rapides, même avec de grands substrats. TEL ALPHA 8 S four de diffusion peut être utilisé dans une variété d'industries, y compris la recherche, le traitement des plaquettes et des matériaux, et les appareils électriques. De plus, des accessoires optionnels comme une boîte à gaz, un capot d'échappement et un système d'eau réfrigérée sont disponibles pour assurer un réglage efficace de la température et une répartition précise des gaz, des fumées et de la chaleur. Globalement, ALPHA-8S four de diffusion est un système de chauffage fiable et polyvalent conçu pour des applications industrielles. Il offre un contrôle de température précis, une diffusion thermique uniforme et des vitesses de refroidissement rapides, ce qui en fait la solution idéale pour une variété de besoins de traitement.
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