Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE #182012 à vendre en France

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ID: 182012
TEOS furnace, L-type Medium temperature General Configuration: Safety Specification: TEL Standard System Layout Type: 200mm configuration System Paint Color: Biege white Furnace Front Surface Finish: Painted / SS Process Pressure (Torr): N/A Process Temperature (ºC): 1000 (Max) FTP Heater: Not Installed Rapid Cooling Unit: Not Installed Heater Type: Mid Temp VMM-40-101 Process Gasses: Process Gas 1: N2 - Process Gas 2: O2 - Process Gas 3: ClF3 Process Gas 4: TEOS Cleaning Gas 1: SETC-TEOS 200cc Cleaning Gas 2: N/A Gas Distribution System: Basic Style: Integrated Gas System (Fujikin) Tubing Material: Stainless Steel Tubing Finish: Electro-polished Tubing Bends: Mechanical Bends OK Manual Valve: Fujikin Air-Operated Valve: Fujikin Filter: Millipore Regulator: Fujikin MFC: AERA Press. Transducer: MKS/NAGANO KEIKI Press. Transducer Display Reference: Compound External Torch Unit: Std Flow Torch Vaporizor: N/A Liquid Source Auto-Refill: N/A Auto-Refill Provided By: N/A Auto-Refill Tubing Interconnect By: N/A Auto-Refill Power Provided By: N/A Gas System Schem. Dwg / Parts List: TEL Supplied Panel Heater for Furnace Opening: N/A Wafer/Cassette Handling: Wafer Type: 200mm SEMI STD Notch Wafer Notch / Flat Aligner: Installed Cassette Type: Fluoroware KA200-80MHR Cassette -Number of Wafers: 26 Cassette Storage Qty.: 21 or 16 Monitor Cassette Operation: IN In-batch/OUT In-batch Cassette In-Out Sequence: In -P1,P2,..,M / Out -P1,P2,..,M Transfer-stage Protrusion Sensor: Installed Fork Type/Material: 1+4 / Al203 Fork -Wafer Presence Sensor: Installed Fork -Wafer Position Sensor or Guide: Installed (Position Sensor) Fork -Variable Pitch: Installed Wafer Loading/Unloading Sequence: ED-->P-->M / M-->P-->ED System Controls: System Controller: Waves Remote MMI and Gas Flowchart: FPD & GFC Installed Signal Tower / Colors: Installed / 4-Color Signal Tower Location(s): (Furnace Front) Temperature Control: Furnace Temperature Controller: M560A Facility Elect. -Equip. Pwr Input( 2 line): Voltage 3phase: 208VAC, 125A, 50Hz Voltage 1phase: 100VAC, 50A, 50 Hz.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SE est un four de diffusion et un équipement accessoire qui est utilisé pour la production de plaquettes d'implantation épitaxiale et ionique. Ce système est adapté à la production à moyenne et grande échelle de plaquettes semi-conductrices utilisées dans la fabrication de puces informatiques et autres composants électroniques. TEL ALPHA-8SE four de diffusion a une plage de température de 400 ° C à 1050 ° C et est équipé de plusieurs sources de GaAs. Les quatre lampes à quartz réglables indépendamment peuvent fournir un chauffage homogène en régime permanent sur toute la surface de la plaquette. En outre, l'unité offre des algorithmes de contrôle propriétaires qui permettent à l'utilisateur de programmer la séquence d'activation et de désactivation de la lampe à quartz. L'intérieur du four est conçu pour réduire la contamination, avec une chambre revêtue de céramique et un revêtement intérieur amovible pour un nettoyage facile. Cette machine est équipée de deux chambres concentriques pour le chargement et le déchargement des plaquettes. Un outil automatisé de transfert de cassette à cassette est également inclus pour une efficacité accrue. Cet atout reconnaît également la présence de différentes plaquettes de forme et de taille utilisant un modèle de reconnaissance optique avancé pour une meilleure manipulation des plaquettes. Le four de diffusion TOKYO ELECTRON ALPHA-8 SE est conçu avec des dispositifs de sécurité tels qu'un équipement d'arrêt automatique et un interrupteur de circuit de défaut de masse. Ce système est également livré avec des capacités programmées d'alarme/journalisation qui alertent les opérateurs des problèmes actuels et potentiels. D'autres fonctionnalités telles que les interfaces informatiques à part entière et le fonctionnement à distance sont également disponibles. Dans l'ensemble, le four et l'accessoire TOKYO ELECTRON Alpha 8SE est une solution efficace et précise pour diverses applications de production de plaquettes semi-conductrices. Cette machine fournit un environnement sûr et fiable pour la fabrication de haute précision des plaquettes d'implantation épitaxiale et ionique. L'outil de commande avancé et les accessoires fournissent à l'opérateur les outils nécessaires pour maximiser le rendement des plaquettes.
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