Occasion CANON EX4 #9242644 à vendre en France

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CANON EX4
Vendu
Fabricant
CANON
Modèle
EX4
ID: 9242644
Steppers (2) CYMER ELS-5300 Lasers.
CANON EX4 Wafer Stepper est un équipement de lithographie de wafer haute performance conçu pour répondre à une variété de besoins de production. Ce système est idéal pour les emballages au niveau des plaquettes et d'autres applications de photolithographie. Il a une conception modulaire qui comprend un étage de positionnement XY de haute précision, une unité d'exposition, et un dispositif de commande de débit. L'étage de positionnement XY de EX4 a une haute résolution de 0,2 μ m et une répétabilité de 0,1 μ m, offrant une précision et une répétabilité supérieures dans le placement des éléments de lithographie. L'étage est constitué d'une machine à deux étages, avec un étage de bas niveau pour les mouvements grossiers, et un étage de haut niveau pour le réglage fin. La technologie de contrôle de mouvement est basée sur le Module de Contrôle de Mouvement Servo4 de propriétaire de la compagnie. Cela permet d'assurer un contrôle de mouvement fluide et précis tout au long de la trajectoire de balayage de la plaquette. L'outil d'exposition de CANON EX4 se compose d'un scanner de miroir conduit du moteur, un balayage à grande vitesse de 30 kHz et un haut pouvoir le laser d'IR. Il dispose également d'un mode de balayage synchrone à deux axes, lui permettant de contrôler entièrement la taille et l'uniformité des taches de faisceau. L'actif dispose également d'un dispositif optionnel de mesure de l'image aérienne optique qui aide à assurer une bonne exposition des plaquettes. Le contrôleur de débit de EX4 est le N-Controller. Ce dispositif influe sur les débits du modèle en ajustant les réglages de pressurisation et de contrôle de débit. Le contrôleur a un réglage de minuterie qui peut être ajusté pour atteindre les temps d'exposition souhaités. Dans l'ensemble, CANON EX4 Wafer Stepper est un équipement avancé de lithographie de plaquettes avec un degré élevé de sophistication technologique. Il offre des performances robustes et fiables et est un excellent choix pour une variété d'applications de conditionnement et de photolithographie au niveau des plaquettes.
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