Occasion BSL / BETA SQUARED LITHOGRAPHY PE 700 #9157841 à vendre en France

BSL/BETA SQUARED LITHOGRAPHY PE 700 est un aligneur de masque de pointe conçu pour des applications de lithographie. Il fournit une solution de lithographie haute performance pour modeler les caractéristiques de haute résolution sur les dispositifs semi-conducteurs. L'équipement est idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, le conditionnement fin et l'emballage avancé. L'alignement de masque BSL PE 700 est un alignement de masque de haute précision qui a un design compact. Il utilise la technologie extrême de lithographie ultraviolette et fournit un système d'exposition avancé pour les modèles de ligne fine. Cette unité est capable de produire des caractéristiques critiques d'une taille aussi faible que 30 nm avec une sortie haute résolution de 18 µm. Il a également un débit élevé d'environ 500 plaquettes par heure. La machine est équipée d'un étage 5 axes motorisé de haute précision, qui offre une excellente précision d'alignement et répétabilité. De plus, l'étage est capable d'effectuer un alignement massif de plusieurs tailles de plaquettes avec une large gamme de substrats. La plaquette peut être maintenue solidement sans déformation du motif. L'outil dispose également d'un processus de lithographie automatisé piloté par logiciel et fournit une image haute résolution à des niveaux critiques. Il permet aux utilisateurs de développer une variété de photomasques de faible à haute complexité. Le photomasque est ensuite monté et exposé sur le dispositif avec une grande précision pour réaliser le motif désiré. La précision d'alignement couplée à la haute résolution fait de l'actif un choix idéal pour des applications de lithographie de haute précision et fiables. BETA SQUARED LITHOGRAPHY PE 700 masque aligner comprend également un modèle de cuisson post-exposition. Cela garantit que le motif est bien cuit avec cohérence. Il dispose également d'un équipement automatisé pour mesurer le résultat final et fournir une rétroaction pour améliorer l'alignement et la précision de la prochaine exposition. Il est ainsi facile d'optimiser les résultats et de maintenir un rendement constant. En résumé, PE 700 est un aligneur de masque haute résolution qui est conçu pour être utilisé dans des applications de lithographie haut de gamme et la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il fournit une solution de lithographie efficace et précise pour modeler les caractéristiques de haute résolution sur les dispositifs semi-conducteurs. Ce système est capable de modeler des caractéristiques aussi petites que 30 nm avec un débit impressionnant de 500 wafers par heure. L'unité de lithographie logicielle automatisée et la machine de cuisson post-exposition en font un choix idéal pour des résultats de lithographie précis et fiables.