Occasion CANON PLA 501 #293621683 à vendre en France

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Fabricant
CANON
Modèle
PLA 501
ID: 293621683
Mask aligners.
CANON PLA 501 est un aligneur de masque très sophistiqué qui est utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Il a été largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour l'alignement de haute précision du masque de photolithographie sur une plaquette. L'équipement est adapté à la production d'IC nécessitant une impression précise au pochoir, une lithographie fine et un balisage haute résolution. CANON PLA-501 permet la fabrication de haute qualité de dispositifs semi-conducteurs, offrant un haut niveau de précision et de répétabilité. Il est conçu pour assurer une précision et une fiabilité optimales dans l'alignement des masques lithographiques et des composants en couches minces. Le système dispose d'une technologie d'auto-alignement, qui permet un alignement précis et répétable des plaques de masque de photolithographie et des plaquettes. L'unité est équipée d'un moniteur InGaAs qui détecte les bords des plaques de masque avec une résolution maximale de 107nm. Ce capteur peut détecter les bords des motifs photorésistants même dans les conceptions les plus complexes. De plus, la machine est conçue pour garantir une haute résolution, la précision maximale d'alignement étant de 5nm. L'outil contient également un mécanisme à étages Z, qui assure un alignement parfaitement parallèle des couches minces de la plaque de masque et de la plaquette, ce qui permet un alignement plus précis. PLA 501 est également capable de modeler des structures ultra-haute résolution. Il est équipé d'un moteur pas à pas qui assure une émission continue de lumière laser, permettant la formation et la fixation de structures fines sur les plaques de masque. Cet actif est compatible avec une variété de types de masques, et il peut gérer jusqu'à 150 plaques de masque. De plus, le modèle permet de créer jusqu'à 200 000 modèles d'alignement, fournissant un processus efficace et fiable. Dans l'ensemble, PLA-501 est largement utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs et fournit un processus fiable et efficace. L'alignement du masque est très avancé et offre un alignement précis et répétable des plaques et plaquettes de masque de photolithographie. Cet équipement est également capable de créer des structures ultra-haute résolution, offrant flexibilité et précision aux composants semi-conducteurs.
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