Occasion KLA / TENCOR Archer AIM #64588 à vendre en France

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ID: 64588
Overlay inspection system with MPX option MPX - Focus Exposure Monitoring      Software Version : 3.10.06SP6      Software Options :      Archer Analyzer      SECS/GEM/HSMS      Klass Client      RDM Client      Objective FOV : 50um      No Klass Station      Configured for 8" Wafers      Two Cassette Platens      Brooks Dual Arm robot      Brooks Prealigner      Flat Display Monitor for User Interface      Keyboard and Mouse for User Interface      Push and Lock EMO      CE Marked 2000 vintage.
KLA/TENCOR Archer AIM est un équipement automatisé et intuitif d'inspection des masques et plaquettes conçu pour permettre une inspection rapide, fiable et performante des masques. Le système est conçu pour être un outil rapide et efficace, capable de trouver et de corriger les défauts avant qu'ils ne deviennent critiques et coûteux. Il est conçu pour offrir des performances améliorées à des résolutions plus élevées et avec moins de défauts. L'unité est capable de détecter et de corriger les défauts de photomasque, ainsi que les défauts lithographiques (wafer). Il est conçu pour être convivial, permettant aux non-experts d'effectuer des tâches de routine automatisées rapidement et facilement, ainsi que de détecter et corriger rapidement les défauts lorsqu'ils sont détectés. La machine est équipée d'un large éventail de capacités d'inspection automatisée des masques, telles que l'imagerie des défauts, l'analyse des signatures, la classification et la quantification, l'analyse de la classification des défauts et la reconnaissance des motifs. Il comprend également la dernière en matière d'imagerie à balayage en fente et d'alignement, capable de capturer les défauts à la fois sur les niveaux photomasque et lithographique. L'outil a été conçu pour inspecter la disposition positive et négative des photomasques, et est capable de détecter et de corriger les erreurs sur une échelle de résolution de 1x nm à 5xnm. Il est également capable de détecter un large éventail de défauts, allant des particules, des matériaux étrangers opaques et de la poussière aux trous de pincement, défauts de motif et désalignements. L'actif est capable de détecter et de corriger à la fois les défauts moyens, c'est-à-dire ceux qui sont visibles ou ont été détectés dans le champ et les grands défauts, ceux dans la gamme par ailleurs invisible des imperfections de motif. Le modèle est également équipé d'une suite d'outils d'imagerie flexibles, permettant de visualiser chaque couche de masque à la plus haute résolution disponible. L'outil a également la capacité de déplacer la concentration entre les zones densément emballées et espacées comme souhaité, et de zoomer pour donner à l'utilisateur plus de regard sur la région affectée. L'équipement offre également des capacités intégrées de gestion des défauts et d'enregistrement qui permettent à l'utilisateur d'examiner rapidement et facilement les mesures correctives prises et les données sur les résultats des inspections automatisées. Le système est également capable de fournir des mises à jour rapides sur les nouvelles informations sur les défauts sur le terrain et de générer des rapports pour une analyse plus approfondie. Enfin, l'unité a été conçue pour fournir la solution la plus rentable pour détecter et corriger les défauts, avec une gamme complète de services, tels que la formation, la mise à jour des logiciels et la maintenance des systèmes. La machine est également très évolutive et peut être facilement mise à niveau si nécessaire.
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