Occasion METRICON PC 2010 #9084282 à vendre en France

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METRICON PC 2010
Vendu
ID: 9084282
Prism Coupler Dual Laser Film Measurement System Updated software Dual Wavelength: 633nm and 1551nm Unparalleled accuracy in measurement of thin film thickness and refractive index Bulk refractive index and thin film/bulk birefringence Includes PC and new software.
METRICON PC 2010 est un équipement d'inspection de masques et de plaquettes destiné à la fabrication de masques photolithographiques et de plaquettes. Le système vérifie la qualité des photomasques et des plaquettes en fonction de leur profil de réflectance (réflectance optique de 400-750 nm) et fournit un rapport avec un profil de réflectance représentatif dans un spectre visible complet pour chaque échantillon. L'unité est conçue pour détecter les défauts de matériaux dans les photomasques et produire des rapports d'inspection sur les plaquettes de toutes tailles. Il dispose d'une machine de lecture optique avancée et d'une plate-forme de descente et d'imagerie 100x personnalisée qui peut inspecter les meurtrières jusqu'à 200mm en utilisant l'éclairage basé sur Tri Stack. L'outil se compose d'un étage de plaquette, d'une tête optique et d'un actif informatique exécutant le logiciel d'analyse d'image METRICON. La tête optique contient un balayeur de rétroéclairage qui se compose d'un objectif 100x et d'un certain nombre de sources lumineuses dont des LED vertes, rouges et IR. L'objectif est monté sur une table en Y, avec un étage de translation XY et un étage de rotation à axe X. Cela permet de balayer la source lumineuse à travers l'échantillon, tandis que l'échantillon est fixé sur l'étage de la plaquette. L'étage de plaquette est composé de deux étages réglables d'inclinaison et de rotation, d'un mandrin de fixation et d'un support de prise de vide. L'étage de wafer dispose également d'un modèle de calibration d'étage mécanique et électromagnétique. METRICON Image Analysis Software est un logiciel puissant d'analyse et de comparaison d'images. Il dispose d'une technique de graphie globale automatique qui fournit un profil de réflectance individuel pour chaque échantillon, lui permettant de comparer avec précision les niveaux de lumière et d'obscurité de l'échantillon. Le logiciel comprend également une application de cartographie des défauts qui permet aux utilisateurs de cartographier les caractéristiques de leurs échantillons dans une plage visible et invisible. Le logiciel peut également mesurer automatiquement l'épaisseur des plaquettes sur toute la surface et discerner les erreurs spatiales et temporelles. Dans l'ensemble, METRICON PC 2010Mask & Wafer Inspection Equipment est un système avancé qui permet aux utilisateurs d'inspecter la qualité des masques et de produire des rapports d'inspection des plaquettes rapidement et avec précision. Grâce à ses capacités de balayage et d'imagerie, il fournit une mesure précise des régions claires et sombres des échantillons. En outre, le logiciel intégré d'analyse d'image permet de comparer facilement plusieurs échantillons et de cartographier les défauts de surface. En tant que telle, l'unité est un outil précieux pour l'assurance de la qualité et les processus de production dans l'industrie de la photolithographie.
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