Occasion RIBER CBE-32 #9212374 à vendre en France

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ID: 9212374
Electron beam evaporator.
RIBER CBE-32 est un équipement d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) conçu dans le but de fournir une résolution de niveau submicronique des structures cristallines. Cette technique a été utilisée pour une grande variété de recherches, y compris les semi-conducteurs et les nanomatériaux. Ce système MBE est composé d'une chambre à vide ultime de 40 degrés, d'une chambre de dépôt de haute précision et d'une unité de commande détaillée. Il convient à la croissance de matériaux tels que les semi-conducteurs III-V et les couches de composés II-VI. La chambre à vide ultime est conçue avec une vitesse de fuite d'hydrogène de 1x10-9 mbar litre/sec et une pression de base de 1x10-9 mbar. Il est équipé d'une gamme de caractéristiques pour optimiser le traitement de l'échantillon, telles qu'une vanne à vide ultra-haute, un étage d'échantillon basculant, un obturateur, un manipulateur, un moniteur à cristaux de quartz (QCM), et une source de résonance cyclotron électronique miniature (ECR). Cette chambre contient également deux cellules d'effusion de 24 x 30 pouces de source multi-poche, ce qui permet l'exposition séquentielle de jusqu'à cinq sources en même temps. La chambre de dépôt dispose d'une machine de transfert linéaire à trois axes et d'un logiciel de contrôle de mouvement en boucle fermée. Cette chambre est conçue pour maintenir l'oxydation en dessous de 0,3 %, et offre un contrôle de mouvement reproductible et précis pour permettre une fabrication étape par étape avec une grande précision de position. Enfin, l'outil MBE intègre un actif de contrôle détaillé qui permet de personnaliser un large éventail de paramètres pour chaque processus de dépôt. Le modèle de contrôle comporte des capacités graphiques et des profils d'utilisateurs, ce qui facilite le suivi et la modification des paramètres lors des processus de dépôt. Dans l'ensemble, CBE-32 Molecular Beam Epitaxy Equipment offre une plate-forme idéale pour le dépôt de caractéristiques nanométriques de haute qualité. La personnalisation des paramètres et la précision du système de contrôle de mouvement permettent des niveaux sans précédent de dépôt de matériaux, ce qui en fait un outil précieux pour la recherche.
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