Occasion VEECO Gen II #9257149 à vendre en France

ID: 9257149
MBE System.
L'équipement VARIAN/VEECO GEN II d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) est une technologie de dépôt et de croissance à haute performance utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour la production de structures et de matériaux à l'échelle nanométrique. Il est capable de déposer et de développer des couches minces de matériaux semi-conducteurs, métalliques et autres dans un environnement contrôlé et presque idéal. Le système VEECO GEN II MBE est conçu autour d'une cavité modulaire à paroi chaude avec plusieurs sources pour différents éléments, permettant un contrôle précis de la croissance des matériaux. Il dispose d'une unité à vide ultra-élevé (UHV), d'un thermocouple à détection de température et d'une unité de refroidissement à cycle fermé. Ce dernier, en particulier, permet d'assurer un contrôle précis de la température et de l'écoulement des gaz pendant le processus de dépôt. Le processus de dépôt commence par une chambre source chauffée et de haute pureté, qui est déposée sur un substrat maintenu en place par un mécanisme élévateur de plaquettes. Pour assurer un film homogène, les paramètres tels que la température du substrat et l'écoulement des gaz sont précisément contrôlés et réglés par un automate. Un obturateur in situ et un spectromètre de masse sont également utilisés pour contrôler la précision et la pureté du matériau déposé. La machine VARIAN GEN II MBE a également la capacité de produire des structures multicouches, avec différents matériaux à différents niveaux à l'intérieur d'un même substrat. Ceci est réalisé par un procédé appelé « dépôt multicouche gradué » et consiste à alterner le dépôt de plusieurs couches de matériaux différents, une couche sur l'autre. Cela permet de fabriquer des matériaux multifonctionnels, tels que des transistors, des LED et des cellules photovoltaïques. L'outil GEN II MBE est capable de produire des films de haute qualité, sans défaut, avec de faibles niveaux de contraintes et de contraintes. En conséquence, elle a une large gamme d'applications en microélectronique, en optoélectronique et en nanotechnologie, ce qui en fait un outil précieux dans l'industrie des semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques