Occasion VARIAN / VEECO GENxplor #9211484 à vendre en France
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Vendu
ID: 9211484
Style Vintage: 2015
MBE Growth system
Vacuum barrier
VBC LN2 Piping system included
kSA 400 Analytical RHEED system, 6"
With k700-12 detector
RF Plasma source for nitrogen GENxplor
RF Source for nitrogen to change from phosphorus to nitrogen
RF Automatic matching unit:
Autotuner source
N2 - Nitrogen plasma source
Auto tuner power option: 110 - 110 VAC
(2) Projects:
GaP On sapphire (and Si), phosphorus-based red LED application
GaN On sapphire
MBE Growth chamber / Source flange assembly
Includes:
Growth chamber with flat seal flange
Full panel liquid nitrogen cooled cryoshroud
(10) 4.625" CF Effusion cell ports
4.625" x 4.5" Water-cooled source enclosures configured with sources
(10) Pneumatic effusion cell shutter ports
Shutter assemblies configured with sources
Top 21.5" CF Flange:
8" Manipulator port with Z-motion single platen horizontal manipulator stage
3" Single zone substrate heater with non-contact
Thermocouple and servo motor control for rotation
Capable of 1000°C TIC temperature
Capable of up to 60 RPM in either direction
DC Power supply
2.75" CF With pneumatically actuated main substrate shutter
(2) Liquid nitrogen feedthrus (Female bayonet)
(4) 2.75" Effusion cell viewing ports with shutters
Integral pumping chamber pumping package:
10" CF Pump port with cryo pump package
Includes:
1,500 CTI CT8 Cryo pump
VAT Pneumatic gate valve
Cryo compressor
Helium lines and cold head cables
8" CF Pump port with ion pump package
220 I/s Ion pump with control unit
(3) 2.75" CF Ports:
Ion gauge and control unit (GRANVILLE PHILLIPS P350)
SRS Residual gas analyzer (0-100 amu)
Titanium sublimation pump
8" CF Transfer port (Gate valve configured with buffer chamber)
4.5" CF Transfer viewport with manual shutter
RHEED Package:
Includes:
6" CF With RHEED screen with shutter
2 .75" CF With 15 keV RHEED gun, (staib) controller
With beam rocking, beam blanking, power supply
4.5" CF With linear retractable beam flux monitor
4.5" CF Optical port 1802 opposite BFM (blank)
(2) 4.5" CF Optical ports 1802 Opposed (blank)
Single-body system support frame
Integral cooling water manifold
Compressed air distribution manifold with pneumatic control circuits
(10) of these are for shutters
Base flange assembly
Includes:
(4) 2.75" CF Ports
2.75" Heated viewport with manualsShutter (pyrometer port)
BASF Pyrometer package (wavelength to be determined)
(3) 2.75" Ports (blank)
Effusion cell:
(3) 60cc Hot lip single filament effusion cell packages
For use with Indium and Gallium
Including:
60cc Hot lip effusion cell
60cc Conical PBN crucible
Linear-motion
Pneumatic shutter with material-specific shutter blade per source
Water cooled enclosure per source
DC Power supply
(2) 60cc Cold lip single filament effusion cell packages for aluminum
Including:
60cc Conical PBN crucible
Linear-motion
Pneumatic shutter with material-specific shutter blade per source
Water cooled enclosure per source
DC Power supply
Valved cracking effusion cell for use with P
Includes:
500cc Mark V P valved cracker
Linear-motion
Pneumatic shutter with material-specific shutter blade per source
Automated servo motor control package
White zone temperature controller
Water cooled enclosure
(2) DC Power supplies
Phosphorus recovery system package
Includes:
Phosphorus recovery system package
Includes:
830 l/s Mag lev turbo pump with backing pump and controllers
LN2 Cryotrap
Gate valve
Cold cathode gauge
5CC Dopant cell package for Si
Includes:
5cc Dopant effusion cell
5cc PBN Crucible
Linear-motion
Pneumatic shutter with material-specific shutter blade
Water cooled enclosure
DC Power supply
60cc Single filament effusion cell packages for use with Zn
Includes:
60cc Single Filament effusion cell
60cc Conical PBN crucible
Linear-motion
Pneumatic shutter with material-specific shutter blade per source
Water cooled enclosure
DC Power supply
Transfer with load-lock and buffer modules:
Entry / Exit load lock chamber
Includes:
8" Quick access door with integral viewport
Quartz lamps for heating to 200°C
8" CF Manual VAT gate valve for connection with the buffer chamber
250 l/s Turbo pump package with controller, roughing manifold, Backing scroll pump
Convection gauge
Ion gauge with control unit
Buffer / Preparation chamber assembly
Includes:
8" CF Viewports for transfer hand-off
Manually driven UHV elevator transfer system
(4) Storage shelves
o One (1) Magnetically-Coupled Transfer Rod Assembly for use from Buffer Chamber to
Growth Chamber
8" CF Pump port with 160 l/s ion pump and control unit
8" CF Manual gate valve (Connect with growth chamber)
Ion gauge and control unit (Granville Phillips GP350)
System electronics cabinets
Includes:
Two-bay electronics rack
System controller
Sixteen-loop PID temperature controller package
Power supply:
RF Source power supply
DC Power module
RF Plasma source RF generator
RF Power connector option: 120VAC
2015 vintage.
VARIAN/VEECO GENxplor est un équipement d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) conçu et fabriqué par VEECO, un fournisseur leader de systèmes de dépôt en couches minces pour l'industrie des semi-conducteurs. Le système MBE offre des capacités de dépôt en couches minces à haute résolution et rentables pour permettre aux dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération. VEECO GENxplor MBE combine une large gamme de fonctions de processus avancées avec une interface utilisateur graphique intuitive pour un contrôle total de la croissance des matériaux, des propriétés des couches et des résultats des appareils. Il a une conception avancée multi-chambres qui permet d'utiliser jusqu'à quatre matériaux de dépôt différents simultanément, fournissant des couches précisément contrôlées et reproductibles. Il offre également une gamme d'options pour l'optimisation des processus afin de permettre des rendements optimisés des appareils et une meilleure répétabilité des processus. L'unité VARIAN GENxplor MBE dispose d'une capacité de 12 sources, 2 chambres qui fournit un commutateur automatique entre différents modes de dépôt. Its.cghncludé chauffage de substrat avancé, permettant de contrôler précisément la température du substrat pour optimiser les propriétés du matériau et les performances du procédé. Il dispose également d'une large gamme de systèmes de surveillance optique et électrique qui permettent de surveiller en temps réel les dépôts de matériaux et les processus de croissance des couches. La machine MBE de GENxplor utilise une technologie d'obturateur mécanique innovante, qui offre une précision dans le contrôle des temps d'exposition de la chambre et de la température du substrat pendant les processus de dépôt. Ceci assure une épaisseur et une uniformité de couche répétables précises. Il dispose également d'un outil de pompage sous vide haute performance qui offre des temps de processus rapides et stables et maximise les performances de vide statique de classe I. VARIAN/VEECO GENxplor MBE est un actif avancé et polyvalent de dépôt en couches minces conçu pour répondre aux exigences de rendement du dispositif et de répétabilité du procédé. Ce modèle offre les avantages d'un dépôt de couche haute résolution et haute précision, ce qui le rend idéal pour les applications de recherche et de production nécessitant une qualité de dispositif avancée. Il s'agit d'une plate-forme très efficace et fiable pour le dépôt de couches minces, offrant des performances maximales et une répétabilité de procédé inégalée.
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