Occasion CUSTOM Custom #9097575 à vendre en France

Fabricant
CUSTOM
Modèle
Custom
ID: 9097575
Taille de la plaquette: 3"
Developer, 3" Cassette to cassette.
Un système de photorésist est une technique de traitement de substrat qui utilise des matériaux sensibles à la lumière pour réaliser des motifs sur des substrats de photorésist. CUSTOM Les systèmes de photorésistance personnalisés sont utilisés dans l'industrie électronique pour diverses tâches, y compris le développement de géométries de motifs fins, l'alignement et le transfert de motifs sur divers supports, et la gravure de composants dans un substrat. Les systèmes photorésistants fonctionnent en exposant une couche photosensible à un motif de lumière. Cette couche de matériau photorésist s'obscurcira lors de l'exposition aux longueurs d'onde appropriées de la lumière. En contrôlant l'exposition à la lumière, des motifs fins sont produits sur la couche de résine photosensible qui ne sont pas facilement réalisés avec des techniques plus standard. Le processus de photorésist personnalisé commence avec la préparation du matériau photorésist original. Ceci implique typiquement la création d'une image positive ou négative de taille relativement grande du motif de circuit désiré. CUSTOM Le motif personnalisé peut ensuite être transféré sur un substrat photorésistant de plusieurs façons. Un film imprimé peut être utilisé, ou un processus d'écriture directe peut être appliqué. Une fois le motif sur le substrat, la résine photosensible est alors exposée à une longueur d'onde particulière de lumière. La photorésist agit comme un film photographique, obscurcissant toute zone soumise à la lumière. Ce processus d'obscurcissement est connu sous le nom de photolitographie. Après exposition, le matériau photorésist peut ensuite être traité. Le développement de la résine photosensible peut se faire à l'aide de solutions de développement propriétaires ou de solvants. Il en résulte une gravure de la couche de résine photosensible juste là où elle avait été exposée à la lumière, créant ainsi un motif sur le substrat. Une fois le motif désiré développé, le substrat peut alors être manipulé davantage par gravure, élimination chimique ou autres procédés. Il est également possible d'utiliser le système photorésist pour réaliser des composants tels que des circuits intégrés ou d'autres types de composants. Après gravure, la couche de photorésistance peut alors être dépouillée et réutilisée. Un système de photorésistance personnalisé permet la production de motifs extrêmement fins et complexes qui ne sont pas facilement réalisables avec d'autres types de processus. C'est un moyen relativement peu coûteux de développer des motifs complexes sur des matériaux de substrat, et c'est un élément clé du processus de fabrication électronique moderne. Son utilisation dans la fabrication de composants en fait un outil inestimable pour l'industrie électronique.
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