Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 2000 #9202286 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000 photorésist est un système multi-fonctionnel, à faible volume, CASS/Lithographie utilisé pour la production de circuits intégrés. FSI Polaris 2000 est une photorésist pleine dimension avec une couverture de zone de scribing pouvant atteindre 12 pouces de large. La machine est conçue avec la flexibilité du processus et l'évolutivité en tête, fournissant des processus de photolithographie pour la production de dispositifs multicouches. L'outil utilise un actif photorésist et une photo-lithographie assistée par ordinateur (CASS) pour appliquer avec précision et précision une seule couche de photorésist à un dispositif multicouche. La machine est équipée d'une alimentation capacitive 6.5KW, d'un générateur multi-ondes et d'un chauffage à double zone pour une cuisson uniforme des couches. L'alimentation offre à la fois la précision et une grande variété de niveaux de puissance permettant d'améliorer la précision et la répétabilité tandis que CASS et multi-zone permettent un alignement précis, la résolution et l'exposition de la résine photosensible. Le modèle permet une distribution précise de la solution de résine photosensible dans un environnement contrôlé. Le processus de distribution en deux étapes ; la première étape utilise une pompe de distribution à vitesse variable et la seconde étape utilise un couteau à air réglable pour façonner et contrôler le flux de résine photosensible sur la couche cible. La machine dispose également de couteaux à air réglables permettant des écoulements jusqu'à 12 "de large ainsi que le contrôle de vitesse et de volume. Les fonctions automatisées de chargement et de déchargement des pods permettent l'automatisation complète du chargement/déchargement des substrats et assurent une intégration prête à l'intégration avec d'autres systèmes FSI. La machine offre également une variété d'options d'amélioration telles que l'analyse numérique de l'image, la mesure automatique de l'épaisseur du film, et l'amélioration de la reproductibilité des données. L'équipement Polaroid 2000 est capable de traiter des plages de temps de moins de 12 secondes à près de 12 minutes, et peut fournir une épaisseur de couche aussi faible que 0,3 microns et aussi haut que 600 microns. Le système peut obtenir une répétabilité de film dans un rayon de 6nm de couche à couche avec et dispose également de positionnement de vision jusqu'à 200nm. En résumé, l'unité de photorésistance TEL Polaris 2000 est une machine de lithographie CASS/Lithographie multifonctionnelle et de faible volume utilisée pour la production de circuits intégrés. L'outil dispose d'un large éventail de temps de processus et permet une résolution et une répétabilité de précision.