Occasion FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris #9212671 à vendre en France

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris est un équipement de photorésistance de pointe développé et fabriqué par FSI Ltd. Le système est conçu pour le traitement de haute précision et de haut débit des photorésists utilisés dans les applications de traitement des semi-conducteurs. L'unité est capable de produire des motifs jusqu'à 50 nm de taille avec une excellente précision et répétabilité. La machine consiste en un procédé avancé de dépôt et de tonification qui permet la création précise et à haut débit de motifs fins dans les photorésistances. La première étape du procédé est le dépôt d'une couche de résine photosensible sur la surface de la plaquette. Cette photorésist est alors exposée à une source de lumière, telle qu'un laser, et les ingrédients photoactifs de la photorésist réagissent avec l'énergie lumineuse créant un motif, ou pattering, dans la photorésist. L'outil utilise alors un solvant pour graver la résine photosensible dans les zones non exposées à la source lumineuse. Ceci crée le motif désiré dans la résine photosensible. FSI Polaris actif est équipé d'un scanner automatisé de haute précision pour le processus de dépôt et de fixation. Ce scanner est capable de positionner et de contrôler avec précision la source lumineuse ainsi que le dépôt de résine photosensible. Le modèle comprend également un logiciel avancé qui permet de contrôler avec précision le processus de fabrication. Ce logiciel permet de régler l'intensité lumineuse, la taille et la forme du motif, et d'autres paramètres. L'équipement TEL Polaris comprend également un large éventail de procédés et d'équipements pour traiter la résine photosensible exposée. Ces procédés comprennent la cuisson et le développement de la photorésist, ainsi que la gravure et le nettoyage de la photorésist exposée. Le système est également capable de créer des motifs complexes, tels que des vias de trous et des motifs multicouches, avec facilité et précision. En conclusion, Polaris est une machine de photorésistance avancée conçue pour produire des motifs de photorésistance très précis et à haut débit. L'outil est équipé d'un scanner automatisé de haute précision, d'un logiciel de balisage avancé et d'une large gamme de procédés et d'équipements pour le traitement de la résine photosensible exposée. L'actif est capable de créer des motifs complexes jusqu'à 50 nm avec une excellente précision et répétabilité.