Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #160121 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est un équipement de photorésistance qui offre une propreté supérieure et une productivité élevée. Ce système est conçu spécialement pour la photolithographie et les procédés de gravure. Il utilise un logiciel spécial et un laser puissant pour créer avec précision des masques photo précis pour une exposition précise et contrôlée des résistances photo. Cette unité est idéale pour des tailles de fonctionnalités plus fines et des applications de haute précision. TEL Clean Track Mark 7 utilise une couche d'arrêt hydrosoluble à la surface puis un laser de haute précision pour former le masque photo. Le faisceau laser est utilisé pour créer avec précision des ouvertures de la taille et de la forme souhaitées sur un matériau photosensible. Cette technologie permet des tailles de fonctionnalités de 50nm à 100nm et une précision de la fonction de tolérance serrée. La machine présente également une fréquence élevée et une uniformité des taux de gravure pour les résistances épaisses ou les résistances photo multiples. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 dispose d'un contrôleur avancé qui surveille la qualité de la formation du masque photo et fournit une rétroaction permettant un développement précis et automatique du masque. Le contrôleur dispose également d'une fonction d'assurance qualité qui informe l'utilisateur si une erreur est détectée. Cela permet une action corrective rapide et précise. L'outil est très fiable et capable de fonctionner en continu sans interruption. Il dispose également d'un cycle de nettoyage automatisé qui nettoie régulièrement le masque photo et empêche l'accumulation de résidus qui peuvent finalement empêcher une performance optimale. L'actif a également une faible consommation d'énergie et de faibles dommages au substrat. En conclusion, Clean Track Mark 7 est un modèle de photorésist de précision conçu pour la photolithographie et les processus de gravure. L'équipement dispose d'un contrôleur avancé qui surveille la qualité de la formation du masque photo et fournit une rétroaction pour une programmation optimale. Il a une fréquence élevée et l'uniformité des taux de gravure pour les résines épaisses ou les résistances photo multiples. Le système a également un cycle de nettoyage automatisé et une faible consommation d'énergie. Toutes ces caractéristiques rendent cette unité photorésist idéale pour des applications délicates ou de haute précision.