Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269603 à vendre en France
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TEL/TOKYO ELECTRON CS450 est un équipement de photorésistance conçu pour diverses applications de lithographie. Le système est équipé d'un moteur de balayage progressif, d'un scanner optimisé et d'un processeur de résistance, ce qui en fait un équipement très polyvalent. Il est capable d'utiliser des résistances positives et négatives sur une variété de substrats avec une taille de masque allant jusqu'à 80 × 80 mm. Le moteur de balayage progressif TEL CS450 est conçu pour minimiser le temps nécessaire à la formation d'un motif avec des couches photorésistantes superposées. Ce moteur offre des processus reproductibles et fiables avec une intervention minimale de l'opérateur. Sa précision d'alignement ± 2 μ m et sa répétabilité ± 0,3 μ m réduisent considérablement le temps qu'il faut pour modeler les substrats et obtenir des résultats de qualité. Le scanner de TOKYO ELECTRON CS 450 est un dispositif de transfert de pipeline de grande surface. Ce dispositif permet aux utilisateurs d'obtenir un contrôle dynamique de l'irradiance optique frappant la couche de résine. Par ailleurs, cette unité comprend un processeur de distribution de résines certifié ISO et de résines à tranches, fournissant une composition de résines fiable et cohérente tout en assurant une couche propre et cohérente sur le masque ou le substrat. La machine comprend également des fonctions à haute et à basse résolution en conjonction avec des conditions d'exposition à plusieurs longueurs d'onde. TOKYO ELECTRON CS450 est également livré avec une technique avancée pour le positionnement automatique des masques intermédiaires lors de l'exposition de l'outil de lithographie. Cette fonctionnalité permet d'ajuster et de peaufiner les options optiques, assurant une résolution précise et un brassage uniforme entre les substrats. Le CS 450 est idéal pour les petits laboratoires, car il est facile à mettre en place et à utiliser grâce à son écran tactile programmable et convivial. En outre, cet actif a un faible coût d'exploitation et est capable de courir jusqu'à six substrats en parallèle, améliorant ainsi le débit. En tant que tel, c'est un excellent choix pour ceux qui recherchent un modèle photorésist rentable, mais fiable pour leurs projets de lithographie.
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