Occasion TEL / TOKYO ELECTRON CS450 #9269627 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON CS450 Photoresist Equipment est un équipement sophistiqué haut de gamme utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le dépôt de photorésist. Le système utilise de multiples modulations pour le dépôt telles que l'évaporation, la pulvérisation et le spin-coating. Il a la capacité d'obtenir un revêtement uniforme sur les substrats rapidement et avec un haut degré de précision. La grande taille du substrat offre un haut débit, et la compatibilité du processus jusqu'à 4500mm. L'unité TEL CS450 comprend également une machine de surveillance in situ de la résistance, qui permet de contrôler en temps réel l'épaisseur de la résistance sur le substrat. L'outil d'évaporateur utilise le chauffage par faisceau d'électrons pour l'évaporation thermique rapide de la plupart des matériaux, et comprend une alimentation en filament nativement intégrée pour des opérations sûres et efficaces. L'actif évaporateur a également une cryopump efficace qui aide à l'évacuation rapide des substrats pendant le traitement. Le modèle comprend également un module de pulvérisation multi-sources qui offre à la fois l'argon et le xénon, ainsi qu'une source de pulvérisation avancée avec un dosage indépendant pour le dépôt multi-matériaux. La précision de l'équipement de spin-coating de TOKYO ELECTRON CS 450 est complétée par sa grande uniformité, ce qui améliore la capacité du système à déposer rapidement et avec précision la résine photosensible sur le substrat. Le spin-coater comprend également une unité d'entraînement à deux têtes qui permet un contrôle précis de la vitesse et de l'uniformité. L'uniformité et la précision de la machine sont encore renforcées par le module d'autorotation active de l'outil, qui utilise un contrôleur de mouvement avancé pour maintenir une vitesse de rotation uniforme. CS 450 Photoresist Asset est un modèle de dépôt fiable et efficace qui fournit à la fois la précision et le débit élevé. Ses défenses dissipées efficaces permettent un miroir de substrat sûr pendant le processus, et son équipement de surveillance in situ de résistance permet des ajustements en temps opportun afin de répondre aux exigences de dépôt. En outre, ses sources de pulvérisation et d'évaporation fournissent une large gamme de compatibilité de procédé, et peuvent offrir une grande uniformité et une opération de dépôt rapide tout en conservant une excellente qualité photorésist.