Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9181758 à vendre en France

L'équipement de photorésistance TEL/TOKYO ELECTRON MARK II est un appareil de photorésistance haut de gamme utilisé en photolithographie et en microélectronique. La photorésist est un matériau sensible à la lumière qui est utilisé pour créer des motifs sur un matériau semi-conducteur afin de fabriquer un dispositif semi-conducteur. TEL MARK II utilise les dernières technologies pour fournir des conditions précises et reproductibles pour le traitement des photorésistances. Le système est constitué de plusieurs pièces, dont une unité de traitement, une interface numérique, un contrôleur de gain de photorésist, une commande de chambre et une unité de traitement de plaquettes. L'unité de traitement peut prendre en charge jusqu'à 30 types de contenants pour le traitement de la résine photosensible, y compris les applications traditionnelles de spin-on et de spray-on. Cela permet d'utiliser une large gamme de photorésist avec la machine TOKYO ELECTRON MARK II. L'unité de traitement comprend également des paramètres programmables en fonction de la température et du temps, et l'option d'un photo-granulomètre pour évaluer la qualité de la résine photosensible. L'interface numérique permet une intégration facile de l'outil avec d'autres systèmes de photolithographie et permet un flux de travail simplifié et automatisé. Le contrôle du gain photorésist garantit que la quantité correcte d'énergie lumineuse est utilisée pendant le processus d'exposition. Le module de commande de chambre intègre un contrôle de température de haute précision avec une pompe à vide et une boucle de recirculation permettant une température de processus constante pour la résine photosensible. Enfin, le moyen de manutention de la plaquette assure un déplacement délicat et précis des substrats lors du passage de l'unité de traitement principale à la chambre. Le modèle comprend également un équipement de capteurs pour surveiller en permanence l'épaisseur de la résine photosensible, ainsi que l'enregistrement des données de processus en temps réel. Cela permet de modifier le procédé pour tenir compte des changements dans l'épaisseur de la résine photosensible et raccourcir le temps de processus. De plus, il existe des capteurs environnementaux qui surveillent la température et l'humidité de l'environnement photorésist. Ceci permet de maintenir les meilleures conditions possibles pour le traitement de la résine photosensible. Dans l'ensemble, MARK II est un système de traitement de photorésistance puissant et avancé. Avec un fonctionnement convivial, des performances de pointe et une manipulation délicate, c'est l'unité parfaite pour produire une résine photosensible de haute qualité.