Occasion TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9181759 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON MARK II
ID: 9181759
Taille de la plaquette: 6"
Coaters, 6".
TEL/TOKYO ELECTRON MARK II est un équipement photorésist à ultraviolet profond (DUV), conçu pour la production de dispositifs semi-conducteurs avancés. Le système comprend une source d'exposition complète, hybride au faisceau d'électrons et à la ligne I hors axe, combinée à une station de traitement de résistance et de gravure entièrement automatisée. L'unité est idéale pour les ingénieurs semi-conducteurs cherchant à réduire le temps de cycle de fabrication des appareils, tout en fournissant des résultats de haute qualité. TEL MARK II est équipé d'un moteur avancé d'écriture de faisceau d'électrons qui offre une faible densité d'énergie, permettant de minimiser la diffusion de résistances et d'exposer des caractéristiques ultra-étroites. La source de faisceau peut en outre être optimisée pour un réglage efficace des caractéristiques inférieures à 50nm. La source d'exposition est augmentée avec une source d'exposition en ligne I hors axe, qui permet une exposition rapide de toute la zone délimitée en une seule étape. La machine est plus qu'une source d'exposition. Il est également conçu pour réduire les temps de production et améliorer le rendement des procédés. Il est équipé d'un outil hautement automatisé de revêtement, de cuisson et de développement, ainsi que d'un module de traitement de gravure adapté. Cela permet aux utilisateurs d'effectuer des séquences de processus entières avec une intervention manuelle minimale. Cela garantit un processus de sélection fiable et répétable. TOKYO ELECTRON MARK II dispose d'un logiciel de contrôle convivial avancé, basé sur une interface utilisateur graphique (interface graphique). L'interface graphique est conçue pour réduire le temps de fonctionnement et permettre un contrôle rapide et intuitif de l'actif pour même la séquence de traitement la plus complexe. Dans l'ensemble, MARK II est un modèle avancé de lithographie DUV capable de répondre aux exigences les plus difficiles. Il permet aux utilisateurs de réduire les délais de traitement, d'augmenter les rendements et d'améliorer la qualité de production des appareils. L'équipement est idéal pour ceux qui cherchent à produire des conceptions ultra-basse résolution en toute confiance dans la fiabilité et la répétabilité.
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