Occasion STEAG / MATTSON / AST Helios #9084734 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9084734
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
RTP system,12", Currently shrink wrapped and warehoused Process Chambers:12" (3x FOUP) Carrier ID reader (Hermos RF CID) SECS/GEM MBC soak anneal controller Low temperature option including Low Temp MBC Fast cooling option (FAC and USJF) Low concentration processing kit Over pressure control Gasses N2 20 SLM N2 150 sccm O2 150 sccm O2 20 SLM O2 2 SLM Ar 150 sccm Ar 20 SLM O2 200 sccmo APF Faceplate 2005 vintage.
STEAG/MATTSON/AST Helios est un processeur thermique rapide (RTP) fabriqué par AST MATTOSN, un leader mondial des technologies de traitement thermique. Il s'agit d'un équipement polyvalent capable de fournir une large gamme d'applications de traitement thermique incluant le dépôt en couches minces, le recuit et l'oxydation thermique rapide (RTO). Le système est composé d'un suscepteur monté horizontalement fixé à une chambre automatisée à haute température. Le susceptor est capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 950 degrés Celsius et est conçu pour une répétabilité avec une précision de température élevée. La chambre environnante est conçue pour le chauffage uniforme du suscepteur à l'aide de lampes halogènes et de chauffage à l'air quartz. La chambre dispose également d'une porte automatisée pour le chargement et le déchargement des plaquettes, ainsi que d'un orifice d'échappement isolé pour les gaz d'évent. L'unité est généralement configurée avec une ou deux lampes à quartz et une lampe halogène. Il peut fonctionner en mode continu, en un seul lot, automatisé et semi-automatisé. Les plaquettes sont chargées dans la chambre via un mécanisme automatisé de transfert à plusieurs niveaux. La machine est également équipée d'un régulateur de température PID pour assurer l'uniformité et la répétabilité. L'outil est capable de traiter une variété de tailles de plaquettes et de substrats, y compris le silicium, l'arséniure de gallium et le saphir. Il est capable d'amincir jusqu'à 6 microns, recuit 70 à 1000 ohms/sq, et oxydant thermique rapide jusqu'à 100 degrés Celsius à 70 à 150 nanomètres par minute. L'actif présente également des fuites de processus premium et une stabilité de cycle à long terme pour des résultats reproductibles et fiables. Dans l'ensemble, AST Helios est un excellent choix pour un large éventail de besoins de traitement thermique. Qu'il s'agisse du dépôt de couches minces ou de l'oxydation rapide de plaquettes, le modèle peut fournir des résultats reproductibles et reproductibles. Avec sa construction robuste et ses fonctionnalités automatisées, c'est un choix optimal pour traiter efficacement vos pièces.
Il n'y a pas encore de critiques