Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0242-29971 #293656311 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS 0242-29971 Le réacteur est un outil de haute performance utilisé dans la fabrication de divers matériaux semi-conducteurs. Ce réacteur d'implantation ionique monobloc offre une uniformité, une précision de dose et un rendement supérieurs. Le réacteur a un courant de faisceau ionisé maximal de 2,50 A et emploie douze sources d'ions indépendantes dans une conception multi-cycles. Il fonctionne à une pression maximale de 10-4 Torr, et a une plage de régime turbo de 0 à 4 500 tr/min, et une plage de température de 100-500 ° C De plus, il dispose de deux étages d'alignement de haute précision et d'une plage de balayage d'énergie réglable de 1 à 20 MeV. Le réacteur AMAT 0242-29971 est conçu avec des composants et des caractéristiques de chambre avancés pour assurer un traitement efficace. L'ensemble porte-substrat est composé de pôles en acier inoxydable qui assurent un positionnement sûr des substrats. Les panneaux de distribution de gaz et de fluide empêchent tout dopage avec d'autres gaz. Les composants supérieurs et inférieurs d'introduction de gaz disposent d'un système d'alimentation optimisé qui assure une livraison correcte de gaz, contribuant à optimiser les temps de dosage et à assurer des résultats uniformes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 0242-29971 possède également une source d'énergie RF de 10 kW avec différentes configurations d'accord. Il a isolé des plages d'accord pour le dépôt rapide et donnant des couches minces, d'excellents résultats pour les matériaux conducteurs et diélectriques. De plus, le réacteur comprend plusieurs capteurs pour mesurer et surveiller la pression de la chambre, la température, le débit de gaz et le courant de source d'ions. Les avantages du réacteur 0242-29971 comprennent des résultats de traitement fiables et uniformes, d'excellentes performances, des temps de cycle rapides et des dommages minimaux au substrat. Cela en fait un outil idéal pour une variété de procédés de fabrication de semi-conducteurs exigeants.