Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9051354 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9051354
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1991
CVD system, 6" (2) Chambers Vacuum processing type Wafer type: Notch MFC: Gas #1: N2 1 slm Gas #2: C2F6 1 slm Gas #3: HE 1 slm Gas #4: N2 1 slm Gas #5: N2 1 slm Gas #6: N2 1 slm Gas #7: N2 3 slm Gas #8: HE 1 slm Gauge: MKS 122BA Baratron, 100 torr MKS 626A Baratron, 100 pa Includes: (2) AD Tec generators AX-1000 II (2) AMAT Matchers AC Rack Gas box (2) Chemical boxes DEFENSA UPS1010 Heat exchanger FUJI ELECTRIC Transformer Main frame 1991 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de traitement thermique monobloc de haute précision et haute performance. Il est conçu pour les procédés par lots dans les industries des semi-conducteurs, des MEMS et d'autres matériaux avancés. La précision, le débit et la précision d'AMAT P-5000 dans la production de composants intégrés en font un outil puissant et économique pour la production de plaquettes cristallines et de matériaux semi-conducteurs. Le réacteur est composé de deux composants principaux : la chambre de procédé et la chambre de pression. La chambre de procédé comporte un suscepteur rotatif pour un chauffage et un refroidissement homogènes, ainsi qu'un injecteur de gaz pour une régulation précise des gaz. La chambre de pression abrite le régulateur de pression et un équipement de distribution de gaz de 300 millibars. Le système de distribution de gaz est conçu pour assurer une régulation extrêmement précise des gaz de procédé et de la température tout en conservant une stabilité à basse pression. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 est également équipé d'une unité d'inflammabilité brevetée. Cette machine mesure les paramètres du processus et fournit un contrôle de rétroaction avancé et des diagnostics. Cet outil permet de protéger contre l'instabilité des processus et d'assurer une performance optimale des processus. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est capable de traiter divers matériaux, dont l'arséniure de gallium, le quartz, le nitrure de gallium, le carbure de silicium et les composés III-V. Les procédés sont conçus pour atteindre une température élevée, un refroidissement rapide et des pressions allant d'un mbar à 900 mbar. De plus, l'AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 comprend des dépôts chimiques en phase vapeur améliorés par plasma, des dépôts de couches atomiques et des technologies de fixation à l'échelle nanométrique pour produire des composants hautement intégrés. En termes de sûreté et de fiabilité, le réacteur P 5000 établit la norme. Il est conçu avec un atout de sécurité complet comprenant un moniteur de pression, une vanne de blocage à vide, une vanne de débit d'hydrogène et un détecteur de fuite d'échappement haute pression. Le réacteur dispose également d'un contrôleur de processus en deux étapes et d'un modèle d'arrêt de la sécurité du régulateur de température pour assurer la stabilité du procédé. En fin de compte, le réacteur APPLIED MATERIALS P5000 est un outil avancé, fiable et rentable pour la production de plaquettes cristallines et de matériaux semi-conducteurs. Sa précision, son débit et sa précision se combinent pour en faire un outil très précieux pour les ingénieurs de conception et les professionnels de la fabrication.
Il n'y a pas encore de critiques