Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9052241 à vendre en France

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ID: 9052241
CVD System, 8" Process: SIO Process chamber: Chamber A, B: SIO Chamber D: ETCH Chamber version: Chamber A & B: Standard VAT ISO valve Chamber D: Standard RF Generator type: Chamber A & B: OEM-12B Dry pump type: Chamber A, B, D & L/L: EBARA 50x20 UERR 6M-J Throttle valve type: Chamber A, B & D: Non heated VME System: 20 Slots CPU: Synergy Video: VGA SEI AI AO (4) DI/DO (4) Steppers Hard Disk Drive (HDD) Floppy Disk Drive (FDD), 3.5" Manometer type: Chamber A & B: MKS 122B 11441 Chamber D: MKS 127AA RF Matching box type: Chamber A & B: 0010-09750D DR Chamber D: 0010-09416 Turbo pump type: Chamber D: LEYBOLD NT340M System electronic type: (2) TC Gauges Buffer I/O AI MUX (2) OPTO (4) Choppers +12VPS +15VPS -15VPS Storage elevator: 8 Slots Cassette handler: Phase III, top clamp Robot: Phase III Blade: Phase III I/O Wafer sensor Load lock purge Heat exchanger: AMAT0: Connect to chamber A, B & D: Wall / LID Main frame front type: Through-the-wall Standard remote frame TC Gauge type: Chamber-A Rough: VCR Chamber-B Rough: VCR Chamber-D Rough: VCR L/L Rough: VCR L/L Chamber: VCR Lamp module type: Chamber A & B: STD 0010-09337 Mini-con Magnet driver type: Chamber A: P/N 0015-09091 Chamber B: P/N 0015-09573 Chamber C: P/N 0015-70060 Gas panel type: (28) Gases Signal tower MFC Type (Main): Chamber / Flow Gas / Flow size / Calib gas / Maker / Model B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400 B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 B / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400 B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400 A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400 D / O2 / 100 / N2 / STEC / SEC-4400 D / CF4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400 MFC Type (Remote): Chamber / Flow Gas / Flow size / Calib gas / Maker / Model B / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400 D / AR / 100 / N2 / STEC / SEC-4400 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de dépôt physique en phase vapeur (PVD) conçu pour aider à la fabrication de dispositifs microélectroniques. Il est conçu pour déposer des quantités précises de matière sur une empreinte très faible, ce qui en fait un outil précieux dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. AMAT P-5000 permet le dépôt de cuivre, d'aluminium, de tungstène, d'or et d'autres matériaux sur des substrats tels que le silicium et l'arséniure de gallium. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 utilise l'évaporation en arc, ou évaporation en arc cathodique, pour le dépôt de matériau. Ce procédé fait appel à des anodes fortement excitées qui émettent une décharge d'arc, délogeant le matériau de la surface de l'anode et provoquant sa vaporisation sous vide. Cette vapeur est alors dirigée vers le substrat, formant un dépôt très uniforme. L'équipement est conçu pour répondre aux besoins variés des différents substrats, et il est constamment surveillé pour assurer une vitesse de dépôt uniforme. P-5000 peut accueillir jusqu'à quatre cibles cathodiques, et peut déposer plusieurs couches de matériaux dans une chambre. Il utilise également une caractéristique « side-multi », qui permet de déposer de part et d'autre d'un substrat, éliminant la nécessité d'une deuxième chambre ou d'un outillage supplémentaire. Le système comprend également un réciproque in situ à 5 axes, qui peut être utilisé pour faire tourner le substrat pour permettre un dépôt uniforme dans toutes les directions. P 5000 est équipé d'une unité de verrouillage de charge, qui permet des débits jusqu'à 7000 wafers par heure. Il peut également accueillir des substrats de 25 mm à 300 mm de diamètre. Un traceur automatique propriétaire garantit que même les substrats de formes irrégulières peuvent être déposés. APPLIED MATERIALS P5000 prend en charge plusieurs méthodes de détection/surveillance/contrôle logique programmable (PLC), qui maintiennent la surveillance des paramètres de processus afin de prévenir les problèmes de production à haut rendement. Certaines des technologies de contrôle des procédés les plus utilisées sont la spectroscopie optique d'émission (OES), les potentiels électrochimiques (ECP) et le profilage de température. Cette machine permet également l'accès à distance et la surveillance des processus en ligne, ce qui peut aider à réduire les temps d'arrêt et à améliorer la productivité. En conclusion, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est un réacteur PVD très avancé et fiable conçu pour aider au dépôt de matériaux sur des substrats microélectroniques. Sa précision, sa vitesse et ses multiples méthodes de contrôle des processus en font un outil utile pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
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