Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36408 #9399533 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36408 est un équipement avancé de réacteur à dépôt chimique thermique en phase vapeur (CVD) conçu pour le dépôt d'une large gamme de matériaux. Il s'agit d'un système monobloc avec un élément chauffant avancé pour le dépôt de matériaux à base de silicium dans des semi-conducteurs, y compris le silicium polycristallin, le nitrure de silicium CVD basse pression et d'autres matériaux avancés. Le réacteur comporte un suscepteur de 0,3, 0,6 ou 1,0 μ m, selon l'application. Il est capable de déposer des températures allant jusqu'à 1100 ° C et est alimenté par une alimentation en courant continu. Ce réacteur CVD dispose d'une unité unique de distribution de gaz, utilisant trois sources de gaz différentes pour fournir un débit ultra précis et uniforme de gaz de dépôt. Il utilise une unité de chauffage multi-zones capable de chauffer chaque plaquette à la température désirée avec précision et efficacité. Il a également une fenêtre de processus serrée, permettant des résultats stables et répétables dans le dépôt d'une variété de matériaux. Le réacteur AMAT 0010-36408 dispose également d'une interface de commande informatique qui permet le fonctionnement manuel ou automatisé de la machine. Grâce à cette interface, les utilisateurs peuvent programmer des paramètres de dépôt pour répondre à leurs besoins spécifiques d'applications, et peuvent également suivre l'avancement du dépôt de la plaquette. L'interface fournit également une variété d'outils de diagnostic utiles pour aider à résoudre les problèmes. En plus de ses caractéristiques avancées, ce réacteur CVD dispose également d'un outil de refroidissement efficace qui empêche le suscepteur de surchauffer pendant le fonctionnement à long terme. Il dispose également d'un actif de purge intégré pour réduire l'accumulation de gaz combustibles, d'un plénum de vide pour les CVD basse pression et de boucliers d'isolation pour assurer la répartition uniforme de l'énergie thermique sur la surface de la plaquette. Dans l'ensemble, le réacteur CVD thermique 0010-36408 est un modèle avancé utilisé pour le dépôt d'une large gamme de matériaux dans des applications semi-conductrices. Il fournit des résultats très reproductibles, tout en étant facile à utiliser et à entretenir. Avec ses multiples sources de gaz et son interface intuitive, il est bien adapté aux procédés avancés de dépôt de couches minces.