Occasion AIRCO TEMESCAL VES 2550 #166774 à vendre en France

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ID: 166774
Electron Beam Evaporation System 25.5-inch diameter x 12-inch high stainless steel, water-cooled deposition chamber designed for waist high substrate loading and unloading 25.5-inch diameter x 20 inch high stainless steel, evaporation source chamber with model VV-400 View Vac view port with Teflon film CTI 400 On-Board cryogenic pump CTI 9600 Helium compressor Mechanical vacuum pump Auto / manual vacuum valve sequence controller Ionization gauge and thermocouple gauge controller Inficon IC6000 Auto/Manual Deposition rate / process controller CV-14, 14kW electron beam power supply with X-Y beam sweep controller Temescal Four (4) pocket electron beam gun with crucible indexer Source shutter assembly fully integrated with deposition controller Substrate tooling for Lift-off deposition process System manuals Optional: Neslab HX350 air cooled water chiller / recurculator 1991 vintage.
AIRCO TEMESCAL VES 2550 est un équipement de pulvérisation spécialement conçu pour un dépôt de film optimal. Le système comporte deux cathodes magnétron et deux cibles en disque d'aluminium qui peuvent être exécutées indépendamment l'une de l'autre, permettant le dépôt simultané de matériaux évaporés et pulvérisés. L'unité comporte également une alimentation à fréquence variable pour commander la sortie de puissance des cathodes magnétron, ainsi qu'une alimentation à trois phases variable pour les cibles de disques. De plus, le TEMESCAL est équipé d'un panneau de gaz qui permet à l'utilisateur de contrôler avec précision le débit et le mélange de divers gaz réactifs et non réactifs. En outre, la machine dispose d'une table tournante de haute précision avec un design de buse unique. Cette conception permet un dépôt uniforme sur le substrat à revêtir. L'outil est également équipé d'une source d'ions de grande stabilité qui permet de contrôler le flux et l'énergie au niveau du substrat ; ainsi qu'un bras de navette à substrat motorisé avec une hauteur réglable pour permettre un accès facile aux substrats. AIRCO TEMESCAL VES-2550 dispose également d'un panneau de commande de haute technologie, facile à utiliser, qui permet un contrôle précis de la température cible, de la température du substrat, du flux ionique, de la puissance et de la vitesse de dépôt. Il est également compatible avec une variété de caméras et de systèmes d'imagerie, permettant à l'utilisateur de surveiller et d'analyser le processus en temps réel. En outre, le TEMESCAL est conçu pour être efficace, avec une faible consommation d'énergie et des émissions minimales. En conclusion, VES 2550 est un excellent atout de pulvérisation pour un dépôt de film optimal. Il est équipé de caractéristiques de pointe qui permettent un contrôle et une analyse précis du processus de dépôt, tout en limitant au minimum la puissance et les émissions. Ceci en fait le choix parfait pour toute application nécessitant le dépôt de couches minces.
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