Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9080130 à vendre en France

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ID: 9080130
Tungsten CVD sputter system Includes: (2) Centura WXz chambers (1) Centura WxP 200 chamber Remote frame Generators: No Robot and linkage (3) Flowmeters for the process cooling water on the back Electronics rack: 15V Power supply Missing part: Robot blade Currently de-installed.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un réacteur de gravure haute performance pour les applications de gravure les plus exigeantes. Ce réacteur dispose d'un large éventail de capacités, y compris la gravure par épuisement et enrichissement, la gravure assistée par ions, le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et les procédés de gravure ionique réactive (RIE). Avec une source brevetée de magnétron VHF, et la capacité d'atteindre une densité de plasma allant jusqu'à 5 x 1012 cm-3, ce réacteur a la puissance nécessaire pour assurer des résultats de pointe. AMAT P5000 Mark II offre un excellent contrôle de la température du substrat, avec une plage de température de - 25℃ à 75℃ et une tolérance de ±1℃ pour une plage de température allant jusqu'à 300℃. Il dispose également d'un moteur de source très efficace pour un placement optimal de la source et une gravure uniformément excellente sur tous les substrats. Sa conception magnétron optimise les rapports entre flux ionique, énergie ionique et puissance source, pour assurer des taux de gravure élevés, de faibles dommages au substrat et une uniformité optimale. La conception modulaire de APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II garantit à la fois la flexibilité et la mise à niveau, permettant aux utilisateurs d'installer de manière transparente des modules de mise à niveau, tels que le système de vide avant à distance en option. Ce système permet de traiter plusieurs plaquettes sans interruption, assurant ainsi un processus de gravure très efficace. La conception permet également de contrôler et d'éviter la gravure parasite en ajustant les paramètres du procédé. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II est équipé d'un contrôleur de haute précision, adapté aux exigences du processus. Avec une technologie de chambre adaptative brevetée, le contrôleur obtient une plus grande précision, une meilleure uniformité et une fenêtre de processus plus large. Les paramètres sont facilement configurés avec l'interface intuitive de l'écran tactile. En outre, le contrôleur peut être interconnecté à divers systèmes de blocs de travail pour le contrôle ultime et l'efficacité. Enfin, ce réacteur a été conçu pour améliorer la sécurité. Ses caractéristiques de durabilité et de protection répondent aux exigences de sécurité les plus élevées, garantissant un fonctionnement conforme. À l'extérieur, P5000 Mark II dispose de couvertures de sécurité de bas niveau, de signaux de sécurité intégrés et d'une couche de protection de chambre en acier inoxydable non magnétique. Bref, APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un réacteur de gravure incroyablement avancé pour les performances ultimes de gravure. Il offre une précision, une fiabilité et une sécurité inégalées pour garantir des résultats cohérents et de qualité supérieure.
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