Occasion BUHLER / LEYBOLD OPTICS Star #9244433 à vendre en France

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ID: 9244433
Sputtering system Loading capacity: (2) Pair of lenses Maximum substrate Ø: 80 mm / 3.15" Process gases: N2, O2, Ar Remote access: LAN / WLAN / Air card Cycle time (4-Layer AR): 10 min Sputter target: Silicon (Si) Sputter power supply: DC Pulsed Sputter rate SiO2: 1.2 - 2.0 nm/s Sputter rate Si3N4: 0.7 - 1.2 nm/s Includes: LEYBOLD OPTICS PK150 Cathode Electrical cabinet Sputter cathode Substrate lift device Substrate rotary drive Turbo pump Water chiller Mechanical pump Handling system Gate valve Shutter Cathode: Swiveled 90° up Operator terminal With touch screen interface Process chamber / Load lock With entry load lock chamber Electrical supply: Electrical cabinet Power supply for sputter source Media supply: Process gasses Water chiller Power and compressed air.
BUHLER/LEYBOLD OPTICS Star est un équipement de pulvérisation sous vide de haute précision conçu pour déposer des couches minces sur des surfaces planes et courbes. Le système offre un réglage de distance substrat-cible supérieur, avec une plage de +/- 6 mm et une résolution de pas de 0,5 mm. Il intègre également une unité avancée de rétroaction en boucle fermée avec trois canaux distincts pour permettre un contrôle précis du processus de pulvérisation. La machine utilise une chambre à vide haute avec des processus automatisés pour permettre un fonctionnement efficace et sûr. La pression maximale de pulvérisation est de 1 mbar et l'outil maintient la pression à l'aide d'une pompe turbo moléculaire. La température de la chambre est maintenue entre -30 ° C et 150 ° C avec une précision de 0,1 ° C. L'actif utilise une source de pulvérisation « magnétron » et une source de pulvérisation « diode » pour un dépôt de film efficace. Les deux sources permettent des vitesses de pulvérisation ajustables et des durées d'impulsions pour un dépôt de haute précision. De plus, les cibles peuvent être inclinées (± 20 °) pour les dépôts obliquement pulvérisés. Le modèle comprend également un équipement de surveillance in situ avancé pour mesurer la vitesse de pulvérisation et l'épaisseur du film. Le moniteur in situ utilise des techniques à base de laser pour mesurer l'épaisseur du film sur le substrat en millisecondes. De plus, le système peut être intégré à l'analyse de composition chimique in-target, en utilisant une technique de double montage en spirale transversale pour mesurer la composition en temps réel pendant la pulvérisation continue. L'unité est conçue pour fonctionner dans un mode monoplace ou multi-positions, permettant un dépôt simultané sur plusieurs substrats. Il peut également être utilisé pour des dépôts séquentiels en couches, alternant entre sources de pulvérisation et de faisceau d'ions. La modularité de la machine facilite également l'intégration de composants supplémentaires, tels qu'une station de charge/déchargement, pour augmenter encore l'efficacité et le débit. BUHLER Star est conçu pour répondre aux exigences exigeantes du revêtement de précision en profondeur des pulvérisateurs, en particulier dans les secteurs de l'optique, de l'électronique et de l'aérospatiale. L'outil est fiable et facile à utiliser, fournissant une plate-forme idéale pour le dépôt de films.
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