Occasion BUHLER / LEYBOLD OPTICS Star #9244433 à vendre en France
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Vendu
ID: 9244433
Sputtering system
Loading capacity: (2) Pair of lenses
Maximum substrate Ø: 80 mm / 3.15"
Process gases: N2, O2, Ar
Remote access: LAN / WLAN / Air card
Cycle time (4-Layer AR): 10 min
Sputter target: Silicon (Si)
Sputter power supply: DC Pulsed
Sputter rate SiO2: 1.2 - 2.0 nm/s
Sputter rate Si3N4: 0.7 - 1.2 nm/s
Includes:
LEYBOLD OPTICS PK150 Cathode
Electrical cabinet
Sputter cathode
Substrate lift device
Substrate rotary drive
Turbo pump
Water chiller
Mechanical pump
Handling system
Gate valve
Shutter
Cathode: Swiveled 90° up
Operator terminal
With touch screen interface
Process chamber / Load lock
With entry load lock chamber
Electrical supply:
Electrical cabinet
Power supply for sputter source
Media supply:
Process gasses
Water chiller
Power and compressed air.
BUHLER/LEYBOLD OPTICS Star est un équipement de pulvérisation sous vide de haute précision conçu pour déposer des couches minces sur des surfaces planes et courbes. Le système offre un réglage de distance substrat-cible supérieur, avec une plage de +/- 6 mm et une résolution de pas de 0,5 mm. Il intègre également une unité avancée de rétroaction en boucle fermée avec trois canaux distincts pour permettre un contrôle précis du processus de pulvérisation. La machine utilise une chambre à vide haute avec des processus automatisés pour permettre un fonctionnement efficace et sûr. La pression maximale de pulvérisation est de 1 mbar et l'outil maintient la pression à l'aide d'une pompe turbo moléculaire. La température de la chambre est maintenue entre -30 ° C et 150 ° C avec une précision de 0,1 ° C. L'actif utilise une source de pulvérisation « magnétron » et une source de pulvérisation « diode » pour un dépôt de film efficace. Les deux sources permettent des vitesses de pulvérisation ajustables et des durées d'impulsions pour un dépôt de haute précision. De plus, les cibles peuvent être inclinées (± 20 °) pour les dépôts obliquement pulvérisés. Le modèle comprend également un équipement de surveillance in situ avancé pour mesurer la vitesse de pulvérisation et l'épaisseur du film. Le moniteur in situ utilise des techniques à base de laser pour mesurer l'épaisseur du film sur le substrat en millisecondes. De plus, le système peut être intégré à l'analyse de composition chimique in-target, en utilisant une technique de double montage en spirale transversale pour mesurer la composition en temps réel pendant la pulvérisation continue. L'unité est conçue pour fonctionner dans un mode monoplace ou multi-positions, permettant un dépôt simultané sur plusieurs substrats. Il peut également être utilisé pour des dépôts séquentiels en couches, alternant entre sources de pulvérisation et de faisceau d'ions. La modularité de la machine facilite également l'intégration de composants supplémentaires, tels qu'une station de charge/déchargement, pour augmenter encore l'efficacité et le débit. BUHLER Star est conçu pour répondre aux exigences exigeantes du revêtement de précision en profondeur des pulvérisateurs, en particulier dans les secteurs de l'optique, de l'électronique et de l'aérospatiale. L'outil est fiable et facile à utiliser, fournissant une plate-forme idéale pour le dépôt de films.
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