Occasion CANON / ANELVA C-7730FH #9167769 à vendre en France

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CANON / ANELVA C-7730FH
Vendu
ID: 9167769
Taille de la plaquette: 5"
Sputtering system, 5".
CANON/ANELVA C-7730FH est un système de pulvérisation thermique conçu pour enrober des films épais de divers matériaux sur des substrats. Il utilise une chambre à vide élevé et une pulvérisation magnétron pour le dépôt. CANON C-7730FH est hautement personnalisable selon l'application et le matériau de dépôt. Il dispose d'un système coaxial programmable (PCS) permettant différents types d'angles magnétron. Il est également équipé de multiples sources de dépôt, y compris une source d'évaporation thermique, pour permettre le dépôt en couches multiples. ANELVA C-7730FH utilise une pompe moléculaire turbo avancée (TMP) pour créer le vide dans la chambre permettant le processus de pulvérisation. Le TMP est capable d'atteindre une gamme de pressions allant de 2 x 10-3 Pa à 5 x 10-5 Pa. Cette gamme de pression permet divers types de procédés de dépôt qui ne pourraient être effectués autrement. C-7730FH est capable de créer une plage d'épaisseur de film comprise entre 1 nm et 200 nm. Ceci peut être réalisé par des processus de pulvérisation à différents paramètres de puissance. Le PCS permet un contrôle précis lors de la pulvérisation puisque le magnétron peut être réglé à différents angles et positions à l'intérieur de la chambre. CANON/ANELVA C-7730FH comprend un haut degré de capacité d'analyse, qui est nécessaire pour les procédés avancés de revêtement des pulvérisateurs. Il est équipé d'un spectromètre, qui peut mesurer la composition des films. Il est également équipé d'un microbalanceur à cristaux de quartz, qui peut mesurer l'épaisseur et l'homogénéité du film déposé. Ces informations peuvent être utilisées pour affiner le processus de pulvérisation pour créer exactement l'épaisseur et la composition de film nécessaires. En raison de son haut degré de fonctionnalités personnalisables, CANON C-7730FH peut être hautement adapté pour une variété d'applications. Il est capable de déposer des films épais en différentes compositions de matériaux pour des applications telles que dispositifs semi-conducteurs, composants optiques et mécaniques, et autres composants liés à l'électronique.
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