Occasion CANON / ANELVA ILC 1051 MKII #9220284 à vendre en France

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CANON / ANELVA ILC 1051 MKII
Vendu
ID: 9220284
Taille de la plaquette: 6"
Sputtering system, 6" Missing parts: Booster Cryo pump.
CANON/ANELVA ILC 1051 MKII est un équipement de pulvérisation dynamique conçu pour le dépôt en phase vapeur et le traitement de surface de divers matériaux pour diverses applications industrielles. Il est utilisé pour le revêtement et le nettoyage des matériaux métalliques, céramiques et semi-conducteurs, ainsi que pour le dépôt de couches minces. Le système se compose de trois composants principaux : une alimentation électrique, une chambre de procédé et une unité de vide. L'alimentation est capable de délivrer jusqu'à 500 watts d'énergie pour la pulvérisation, le broyage ionique et la croissance de film. La chambre de procédé abrite le substrat, le matériau cible et la cathode. Il est généralement relié à une pompe à vide, qui sert à maintenir un vide dans la chambre lors du dépôt. CANON ILC 1051 MKII utilise une cathode à courant continu (DC) capable de produire des taux de dépôt élevés à basse fréquence (100 kHz) et de produire des films à haute densité. Il dispose d'une fonction intégrée de contrôle du processus qui peut être utilisée pour ajuster le courant, la tension, l'angle d'incidence et la température du matériau cible. En outre, la machine est équipée d'un écran de lecture numérique qui surveille clairement les paramètres du processus. L'outil fonctionne à une température relativement plus basse par rapport aux autres systèmes de pulvérisation, ce qui le rend adapté à toute une série d'applications matérielles, y compris les métaux réfractaires, les cibles céramiques et les substrats de plaquettes de silicium. La chambre de procédé est également contrôlée en température, ce qui permet un contrôle précis de la température lors du dépôt. L'actif est également adapté au PVD (Physical Vapor Deposition) de films conducteurs, isolants et semi-conducteurs. Ce procédé permet un dépôt couche par couche avec une précision de niveau atomique. Il peut également être utilisé pour le dépôt de films d'oxyde, ce qui est utile dans les applications optoélectroniques et électroniques. Le modèle est également capable de produire des revêtements de surface uniformes et lisses avec d'excellentes propriétés optiques. Dans l'ensemble, ANELVA ILC-1051 MKII est un équipement de pulvérisation perfectionné qui offre un large éventail d'applications et de fonctionnalités. Il est capable d'obtenir un dépôt en couches minces de haute qualité et convient à un large éventail de matériaux. Le système offre également un contrôle précis du procédé, de la température et du dépôt couche par couche. Toutes ces caractéristiques en font un excellent choix pour les chercheurs et les professionnels industriels à la recherche d'une unité de pulvérisation polyvalente et fiable.
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