Occasion CANON / ANELVA ILC 1060 #9175336 à vendre en France
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Vendu
ID: 9175336
PVD Sputtering system, 5"
Process: SiO2
Chambers:
(3) SP
Etch
Heat
L1-Chamber configuration:
Process: Etch
Exhaust pump: TG-550
Power unit model: VMA-1
1kW (RF)
Shield: φ5 Standard
Holder type: Upthrust pin
Process gas / Ar: 100sccm
Baratron: 690A01TRC
Gate valve
No MV lock method
No shutter method
No shield temperature control
No Q-UHV
No analyzer tube
L2-Chamber configuration:
Process: Wsi
Exhaust pump: Torr8
Power unit model: PDC-157E
15kW (DC)
Cathode Mg: Wsi8/6-1
Shield: Top / Bottom exhaust
SP Chuck type: 99% Ring chuck
Holder type: Top / Bottom clutch
Heating temperature: 400°C
Heating type: Ceramic heater
Heating method: Gas heating
Process gas / Ar: 100sccm
Baratron: 690A01TRC
Gate valve
No MV lock method
No shutter method
No shield temperature control
No Q-UHV
No analyzer tube
C-Chamber configuration:
Process: Ti
Exhaust pump: Torr8
Power unit model: PDC-157E
15kW (DC)
Cathode Mg: Ti8-1
Shield: Top / Bottom exhaust
SP Chuck type: 99% Ring chuck
Holder type: Top / Bottom clutch
Heating temperature: 400°C
Heating type: Ceramic heater
Heating method: Gas heating
Process gas / Ar: 100 sccm
Baratron: 690A01TRC
Gate valve
No MV Lock method
No shutter method
No shield temperature control
No Q-UHV
No analyzer tube
R2-Chamber configuration:
Process: TiN
Exhaust pump: Torr8
Power unit model: PDC-157E
15kW (DC)
Cathode Mg: TiN8-1
Shield: Top / Bottom exhaust
SP Chuck type: 99% Ring chuck
Holder type: Upthrust pin
Heating temperature: 400°C
Heating type: Ceramic heater
Heating method: Gas heating
Process gas / Ar: 100 sccm
Process gas / N2: 100 sccm
Baratron: 690A01TRC
Gate valve
No MV Lock method
No shutter method
No shield temperature control
No Q-UHV
No analyzer tube
R1-Chamber configuration:
Holder type: Top / Bottom clutch
Heating temperature: 400°C
Heating type: Lamp heater
Heating method: Radiation heating
Cables missing
1994 vintage.
CANON/ANELVA ILC 1060 est un équipement de pulvérisation utilisant une technique de pulvérisation hautement contrôlée et efficace. Ce système permet le dépôt de couches minces sur divers substrats et a été largement utilisé dans les industries semi-conductrices, optiques et biomédicales. CANON ILC 1060 se compose d'une chambre principale, de deux chambres de transfert, d'une chambre de pré-pulvérisation et d'une chambre de pulvérisation thermique. La chambre principale est celle où s'effectue le plus de pulvérisation et est équipée d'une diode magnétron et d'une cible cathodique de pulvérisation. Le magnétron à diode permet d'ioniser le gaz pulvérisateur et de faire tourner ou osciller la cible pour obtenir un dépôt uniforme. Le vide est maintenu dans la chambre et contrôlé par une unité de pompage turbomoléculaire intégrée. La chambre de transfert contient deux sources de plasma, KF et KHM, ainsi qu'un sas de charge, pour assurer un transfert contrôlé des substrats de la chambre principale. Pendant ce temps, la chambre de pré-pulvérisation est utilisée pour casser les contaminants de surface avant l'entrée de l'échantillon dans la chambre principale. Enfin, la chambre de pulvérisation thermique est utilisée pour évaporer des matériaux, par application d'une source de plasma radiofréquence. ANELVA ILC-1060 est alimenté par une unité de traitement du signal numérique ou unité DSP, qui génère du plasma et produit une gamme de systèmes de support nécessaires au traitement des pulvérisateurs. L'unité DSP est responsable du contrôle de la pression du pulvérisateur, de la température de la chambre et de la composition du gaz. En outre, l'unité DSP fournit une gamme de fonctions de sécurité telles que la protection contre la surchauffe, la protection contre les surintensités et la protection contre le champ magnétique. Afin d'exploiter ILC 1060, une variété de paramètres doivent être réglés. L'utilisateur doit spécifier la température du substrat, la puissance du pulvérisateur, la pression du pulvérisateur, le temps du pulvérisateur, la fréquence et la cible. De plus, la machine peut être programmée automatiquement avec des paramètres prédéfinis. En raison de ses nombreuses caractéristiques, CANON/ANELVA ILC-1060 est un outil de pulvérisation puissant et efficace. Il est capable de déposer des couches minces sur divers substrats, tout en offrant aux utilisateurs souplesse et contrôle. En tant que tel, il est un choix idéal pour ceux qui cherchent à profiter du traitement de pulvérisation pour leurs applications particulières.
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