Occasion CVC 611 #9160360 à vendre en France

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Fabricant
CVC
Modèle
611
ID: 9160360
Sputtering systems BROOKS VT-5 Robot (2) RF Targets, 8" (2) MKS MFCs CTI CT-8F Cryogenic pump Techware computer MKS Baratron All rough / Vent valves Computer controller Rotational table Robot wafer loading Wafer cassette in vacuum load lock.
CVC 611 est un équipement de pulvérisation réactive multi-cibles conçu pour déposer des films minces sur de grandes surfaces avec une vitesse et une efficacité maximales. Il utilise la technologie de pulvérisation magnétron et les supports de substrat contrôlés par ordinateur pour créer des propriétés de couche mince de haute qualité. 611 système de pulvérisation est composé de plusieurs composants, dont une roue cible, un convertisseur de fréquence, un magnétron, un porte-substrat, une chambre de procédé, des panneaux d'espacement de substrat, un panneau de refroidissement à l'eau et des contrôleurs. La roue cible contient six cibles, chacune avec son propre convertisseur de fréquence, permettant des configurations de pulvérisation multiples. Les convertisseurs de fréquence permettent un réglage fin de la puissance lors de la pulvérisation. Le magnétron est conçu pour générer du plasma haute densité, offrant un revêtement uniforme aux substrats. Le support de substrat dispose de capteurs intégrés pour le contrôle de la température et de la pression du gaz. La chambre de procédé est équipée de matériaux réfractaires pour le contrôle de la pulvérisation et de gaz ionisé pour le contrôle du plasma. Il dispose également d'une unité d'évacuation avec pompes à vide pour augmenter la vitesse de pulvérisation. Les panneaux d'espacement de substrat assurent un espacement et un positionnement uniformes du substrat à l'intérieur de la chambre. Le panneau de refroidissement utilise de l'eau pour refroidir les substrats pulvérisés et maintenir la température de la chambre. Les contrôleurs du CVC 611 permettent une application précise de la puissance et le timing cible. 611 pulvérisateur est très polyvalent et peut déposer une variété de films minces sur de grandes surfaces. Il offre une excellente couverture, précision, vitesse et efficacité. Il est fréquemment utilisé dans les secteurs de la photolithographie avancée, de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, du stockage de données et de la bioscience. CVC 611 est un outil fiable et robuste qui fournit des performances constantes et durables.
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