Occasion DENTON VACUUM DESK II #9114743 à vendre en France

DENTON VACUUM DESK II est un équipement de nouvelle génération conçu pour la recherche et le développement dans le domaine du dépôt sous vide et du revêtement en couches minces. Le système est idéal pour le dépôt de couches minces à haute conductivité et diélectriques, telles que les oxydes, les nitrures, les carbures et les alliages, avec précision et fiabilité. L'unité est équipée d'une configuration multichambre sur mesure qui comprend une pompe turbo-moléculaire, une chambre à vide primaire, une chambre de procédé, une chambre d'e-pistolet et une chambre de filtration. La machine est conçue pour permettre le chargement et le déchargement des échantillons. Il se compose également d'un contrôleur de processus avancé en boucle fermée, qui permet l'automatisation complète des applications séquentielles de pulvérisation de films. L'outil est capable de déposer rapidement des pulvérisateurs avec une excellente uniformité sur de grandes surfaces jusqu'à 42 "de large. Il est également très polyvalent, avec la capacité de déposer une variété de matériaux à partir de cibles élémentaires et composées avec une gamme de configurations de montage de substrat. Le contrôleur de processus dispose également d'une mémoire de recette de cinquante programmables, ce qui permet de stocker jusqu'à cinquante recettes prédéterminées pour une utilisation future. Les paramètres du processus peuvent être facilement modifiés par l'intermédiaire de l'interface graphique intuitive, qui comprend une grande variété d'options d'entrée/sortie et jusqu'à six paramètres du processus, y compris la pression, la température, la polarisation du substrat, la polarisation de la cible, la vitesse de dépôt et l'épaisseur du film. La conception conviviale comprend des paramètres pré-programmés et définis par l'utilisateur. L'actif comprend également huit dispositifs de chauffage direct pour l'uniformité des substrats et des températures cibles et un faible taux de dégazage, ainsi que deux sources de polarisation des substrats RF pour une large gamme d'optimisation du contrôle des processus. Le contrôle RPM avancé permet à l'utilisateur d'optimiser les paramètres pour les couches de revêtement ultra-minces et les dépôts épais. Le modèle fournit une surveillance optique avancée par spectroscopie optique d'émission, permettant à l'utilisateur d'analyser minutieusement les taux de dépôt des films et d'ajuster les paramètres en conséquence. De plus, un port de service à distance fournit un accès à distance complet pour les demandes de données, les diagnostics de processus et le réglage. Cela permet de maintenir l'efficacité du processus en réduisant le temps et les coûts associés à un appel de service sur place. En conclusion, DESK II est un équipement de pulvérisation perfectionné qui offre une uniformité et une précision de film exceptionnelles avec une interface graphique utilisateur intuitive et un contrôle fiable des processus en boucle fermée. Sa configuration multichambre permet une large gamme d'optimisation des procédés, et sa surveillance optique avancée assure en outre un dépôt efficace des pulvérisateurs. Le système est idéal pour la recherche et le développement nécessitant un fonctionnement avec précision, fiabilité et faible coût de possession.