Occasion HITACHI IML4-1 #9128628 à vendre en France

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HITACHI IML4-1
Vendu
ID: 9128628
Taille de la plaquette: 4"
Style Vintage: 2000
Ion milling system, 4" 2000 vintage.
HITACHI IML4-1 est un équipement de pulvérisation ultramoderne. Ce système d'enrobage sous vide est doté d'une unité de pompage turbo-moléculaire à 3 étages intégrée dans la chambre extérieure, offrant des performances constantes sur une large gamme de pressions de fonctionnement. Cette machine permet un dépôt précis de couches minces à très basse pression et basse température. IML4-1 comprend un outil de dépôt par évaporation. Cette technologie utilise une puissante source magnétron pour chauffer localement un échantillon, créant un plasma afin d'évaporer des atomes qui peuvent être utilisés pour créer des films minces. Cet actif est susceptible d'être tourné pour une couverture cinématographique optimisée. HITACHI IML4-1 a la capacité de contrôler précisément la vitesse d'évaporation et la vitesse de dépôt des atomes sur toute la surface d'un échantillon, assurant ainsi l'uniformité. De plus, IML4-1 prévoit l'utilisation d'une cible de pulvérisation circulaire de 300mm. Cette cible de pulvérisation peut être utilisée pour déposer entre autres des couches minces de différents métaux, tels que l'aluminium, le chrome et le titane, avec une très grande vitesse de dépôt et une très grande homogénéité. HITACHI IML4-1 intègre également une source de plasma à haute énergie, qui peut être utilisée pour pulvériser de larges zones d'un échantillon en peu de temps. En outre, le modèle est équipé d'une source auto-magnétique, qui permet un contrôle précis du profil de dépôt et des paramètres du film, permettant une stabilité à long terme. Enfin, IML4-1 est également équipé d'une serrure pour le chargement et le déchargement faciles des échantillons. Pour une sécurité accrue des utilisateurs, HITACHI IML4-1 est contrôlé et surveillé par un moniteur plasma, ainsi que par un détecteur de fuites numérique et un thermomètre à thermocouple. En conclusion, IML4-1 est un système de pulvérisation ultra-performant capable d'assurer un dépôt précis de couches minces avec une grande vitesse et uniformité. Cette unité à la pointe de la technologie est facile à utiliser et à entretenir et est idéale pour un large éventail d'applications, de la recherche et développement aux petites séries de production.
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