Occasion METRON Eclipse #9077820 à vendre en France

METRON Eclipse est un équipement de pulvérisation conçu pour fournir des taux de dépôt élevés avec un contrôle et une uniformité exceptionnels. Le système est une machine de pulvérisation à couche PVD très efficace qui utilise une seule chambre principale avec des plates-formes rotatives individuelles, permettant à l'utilisateur de pulvériser plusieurs plaquettes simultanément. L'unité dispose d'un design modulaire unique, lui permettant d'être facilement personnalisé et configuré pour une grande variété d'applications. L'éclipse est capable de fournir des taux de dépôt élevés à une pression relativement faible sans sacrifier la qualité ou l'uniformité. METRON Eclipse est basé sur la conception d'un PVD à arc cathodique, avec l'ajout d'une machine tournante pour permettre le dépôt de couches sur plusieurs plaquettes simultanément. L'outil est équipé d'un outil de chargement/déchargement automatisé, qui permet aux utilisateurs de déplacer rapidement et facilement des plaquettes d'un endroit à l'autre. Eclipse utilise un courant continu et une alimentation variable pour pulvériser une variété de matériaux avec diverses compositions, tailles et formes. METRON Eclipse est bien adapté aux couches de cuivre, titane, nickel, cobalt et aluminium, car ces matériaux ont la plus grande résistance à la pulvérisation. Le modèle utilise une technique de dépôt uniforme à haute efficacité pour assurer une couverture uniforme de la couche sur toute la surface de la plaquette. Eclipse supporte un large éventail de technologies de dépôt telles que le faisceau d'ions, la rotation et le plasma radiofréquence. Un équipement intégré de chauffage/refroidissement à chambre assure le maintien correct de la température de pulvérisation et l'introduction d'un gaz de pulvérisation est possible. Le système est équipé d'une unité de refroidissement intégrée avec une plage de température réglable de 0 à 50 ° C, permettant aux utilisateurs de maintenir leur température de refroidissement à un niveau idéal. La pression de la chambre peut être réglée de 0,1 mbar à 6 mbar et l'utilisateur peut facilement contrôler le courant, la tension, la pression du gaz et le débit. METRON Eclipse dispose d'une interface utilisateur graphique facile à utiliser pour configurer et surveiller le processus de pulvérisation. La machine offre une grande compatibilité de vitesse de dépôt, avec un rapport d'aspect 1:1 de vitesse de pulvérisation de 250 nm/min et un rapport d'aspect de 2:1 de 155 nm/min. Le taux de dépôt pour un rapport d'aspect 4:1 est de 105 nm/min, et pour un rapport d'aspect 5:1, il est de 48 nm/min. Eclipse offre à l'utilisateur le contrôle le plus élevé en termes de stabilité et d'uniformité du plasma, offrant des plages de contrôle serrées et une uniformité pour les processus de pulvérisation continue. En outre, l'outil est conçu pour produire de meilleurs résultats que les techniques de pulvérisation à courant continu, donnant une densité de film accrue et une meilleure adhérence. Dans l'ensemble, METRON Eclipse est un atout idéal pour la fabrication de couches présentant une homogénéité et des caractéristiques de dépôt supérieures. C'est une machine efficace, sûre et fiable qui est facile à configurer et à utiliser, idéale pour une variété d'applications de pulvérisation. Grâce à son taux de dépôt élevé et à son uniformité, le modèle peut être utilisé à petite échelle pour la production et la recherche en laboratoire.