Occasion MRC 603 I #9107596 à vendre en France

MRC 603 I est un équipement de pulvérisation conçu pour être utilisé dans les domaines de la microélectronique, de l'affichage de panneaux plats et de l'ingénierie des couches minces connexes. Le système intègre plusieurs sources de pulvérisation et un processeur plasma haute performance pour produire des couches minces de haute qualité avec une excellente uniformité. L'unité comprend une seule chambre de pulvérisation cible, des têtes de pulvérisation à double magnétron et une source d'arc en chambre. La chambre de pulvérisation peut accueillir jusqu'à 8 pouces (203mm) de plaquettes de diamètre et de multiples caractéristiques intégrées à la machine permettent un chargement et un déchargement faciles des substrats. L'outil 603 I offre une large gamme de matériaux cibles de pulvérisation, des métaux précieux tels que l'or et le platine aux matériaux conducteurs et semi-conducteurs tels que l'aluminium, le cobalt et le chrome. Le magnétron double tête dispose d'un contrôle indépendant du niveau de puissance, de la tension de polarisation et de la température, permettant un dépôt précis et précis des couches minces. La source d'arc, utilisant l'argon comme gaz de travail, assure un contrôle exceptionnel de l'environnement plasmatique, permettant un contrôle précis des surfaces et des propriétés du film. MRC 603 I offre une large gamme de flexibilité de processus. La puissance RF, la fréquence des impulsions et le rapport cyclique de la pulvérisation peuvent être contrôlés indépendamment pour les deux sources cibles, ce qui facilite l'optimisation du processus de dépôt pour chaque matériau. La source d'arc interne permet la création d'espèces très réactives pour les modifications de surface et la nitruration. Elle permet également d'améliorer l'adhérence du film sur le substrat sans nécessiter de procédés chimiques supplémentaires. 603 I dispose d'un logiciel sophistiqué de contrôle des processus pour surveiller et enregistrer les paramètres de pulvérisation en temps réel. Cela permet une identification facile des problèmes de processus et un contrôle précis des processus. En outre, l'actif comprend des capacités d'analyse de données avancées, qui permettent d'affiner les paramètres du processus pour obtenir une performance optimale des couches minces. Le logiciel permet également de faciliter le transfert et le stockage des données, ce qui facilite le partage des données des films et le développement et la personnalisation des processus de pulvérisation. Dans l'ensemble, le MRC 603 I est un modèle de pulvérisation haute performance conçu et configuré pour répondre aux besoins de la microélectronique, de l'affichage à écran plat et d'autres applications d'ingénierie en couches minces. Avec sa large gamme de matériaux cibles, sa puissante source d'arc et ses capacités avancées de surveillance logicielle, le 603 I offre un excellent dépôt de couches minces avec une grande uniformité et répétabilité.