Occasion MRC 603 #166010 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

Fabricant
MRC
Modèle
603
ID: 166010
Sputtering system Control ranges: Sputtering pressure: 3 min, 25 max millitorr Scan speed: 2 min, 400 max cm/min DC Sput: 300 min, 9999 max watts RF Sput: 0.02 min, 2.5 max kV, 0.1 min, 1.5 max kW RF Etch: 0.2 min, 1.5 max kV, 0.1 min, 1.5 max kW Heat at etch station: 10 min, 18 max Amps Vacuum loadlock: Ultimate: 50 milliTorr Pumpdown time: 50 milliTorr within 2 min.
Le MRC 603 est un équipement de pulvérisation à haute performance et à sources multiples qui est largement utilisé pour le dépôt physique en phase vapeur de matériaux à couches minces. Il permet de pulvériser simultanément jusqu'à trois cibles de matériaux différents. Les cibles de pulvérisation sont contraintes dans une chambre spécialement conçue et les sources de matière pulvérisée sont alimentées à partir d'un canon à électrons à radiofréquence ou à courant continu. Une plate-forme rotative puissante et pilotée par ordinateur permet une rotation rapide des trois cibles, ainsi qu'une distribution précise de la dose prédéterminée de matière à pulvériser. Le système se compose d'une chambre de blindage spéciale, d'une puissante source de pulvérisation, d'un plateau tournant, d'une unité de refroidissement et de l'alimentation principale. La chambre source est conçue pour empêcher tout dégazage, poussière, particules et condensation. Il est également conçu avec un diffuseur pour minimiser le piégeage de la matière pulvérisée dans l'espace entre la chambre et le substrat. La source de pulvérisation peut être configurée pour fonctionner à la fois aux fréquences DC et RF, et peut être adaptée à différentes configurations d'anode avec des composants spéciaux supplémentaires selon les exigences de l'expérience. Une plate-forme rotative de haute puissance assure que tous les composants à l'intérieur de la chambre tournent et sont dans la position optimale pour les expériences. La 603 comprend également une machine de refroidissement qui aide à gérer les augmentations de température pendant le fonctionnement. Il est composé de deux circuits de refroidissement indépendants, l'un pour la source de pulvérisation et l'autre pour le reste de l'outil. L'actif de refroidissement comprend des ventilateurs réglables en vitesse, ainsi que plusieurs débitmètres et capteurs de température. L'alimentation principale de la MRC 603 est une unité de qualité industrielle de pointe avec une large gamme de réglages de courant et de tension. Cette alimentation peut supporter des courants de charge jusqu'à 10kW et assure une alimentation fluide et précise à la source et aux autres composants. Pour le contrôle et l'enregistrement des données, 603 peut être connecté à un ordinateur via une connexion USB ou Ethernet. Il est livré avec un logiciel de contrôle dédié spécial qui fournit aux utilisateurs une large gamme de paramètres et d'affichage graphique. Dans l'ensemble, le modèle de pulvérisation MRC 603 fournit aux chercheurs une solution de pulvérisation tout-en-un robuste, fiable et pratique à utiliser. Il permet aux chercheurs d'expérimenter facilement différents types de matériaux en couches minces et de contrôler avec précision le processus de pulvérisation.
Il n'y a pas encore de critiques