Occasion MRC 662 #9248278 à vendre en France

MRC 662 est un système de pulvérisation conçu pour le dépôt par faisceau d'ions à haut débit (HRID) de couches minces. Il utilise une source de canon à émission de champ (FE) pour générer des ions chargés positivement qui traversent une chambre de réaction et enrobent une surface cible sous forme d'un film mince. 662 est capable de déposer des matériaux à des vitesses allant jusqu'à 3-4 angströms par seconde et peut être utilisé pour les processus de dépôt in situ et ex situ. MRC 662 dispose d'une chambre de dépôt configurable avec une large gamme de paramètres, y compris des régulateurs de pression et de température personnalisables. Il peut être ajusté pour fournir une variété de procédés, tels que le dépôt physique en phase vapeur (PVD), la pulvérisation magnétron, ou la pulvérisation réactive de cibles. Le procédé réactif de pulvérisation est souvent utilisé dans la production de milieux magnétiques de stockage et produit un revêtement avec une bonne résistance à la corrosion et un haut niveau de résistance à l'oxydation. La 662 propose également plusieurs options pour la collecte et l'analyse des données. Il peut être équipé d'un porte-échantillon utilisable pour l'analyse in situ et ex situ, permettant la caractérisation des couches minces pulvérisées substrat/cible. Il peut également être utilisé pour mesurer les propriétés électriques et magnétiques du substrat et du film déposé. Le MRC 662 est un système de pulvérisation perfectionné qui permet de déposer des couches minces de divers matériaux et épaisseurs de manière contrôlée et récursive. Il utilise un canon FE qui a une plus grande stabilité aux émissions d'ions que les autres systèmes de pulvérisation. La 662 est fabriquée par Mitsubishi Electric Corporation et est largement utilisée dans l'industrie électronique pour le dépôt de couches minces sur des substrats.