Occasion MRC Eclipse #9225158 à vendre en France

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ID: 9225158
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2009
Sputtering system, 8" Chamber 1: Process: ALSI Chamber 2: Process: TI Chamber 3: Process: AL Sputter chamber 1 / 2 / 3: Type, 8" DC Power: AE Cryo pump: CTI 8F RF Chamber: Process: Hard etch RF Power: AE Cryo pump: CTI 8F Main frame: Robot type, 8" Alignment Load lock cryopump: CTI Onboard 8 Compressor: Type 1: (2) 9600 Type 2: SUZUKI EBARA A10S Dry pump System monitor: Front panel Remote control 2009 vintage.
MRC Eclipse est un équipement de pulvérisation perfectionné conçu et fabriqué par MRC pour le dépôt précis de couches minces. Le système de pulvérisation à cibles multiples est un outil de haute productivité pour la recherche sur les matériaux, le développement de procédés, la production par lots et les applications de contrôle de la qualité. L'unité utilise la technologie de pulvérisation haute performance pour déposer des couches minces uniformes sur des substrats de tailles et de compositions diverses. Eclipse est conçu et construit avec diverses fonctionnalités innovantes qui lui permettent de déposer rapidement et avec précision des films minces avec une précision proche de la couche atomique. MRC Eclipse est équipé d'un ensemble polyvalent de composants qui permettent aux utilisateurs de configurer la machine en fonction de leurs besoins spécifiques. L'outil utilise une source de pulvérisation magnétron high-T5 DC avec 2, 3 ou 4 capacités cibles, une source d'ions pour contrôler l'environnement de travail, et un actif de pompage en option pour la gestion du vide. Eclipse dispose également d'un contrôleur avancé qui permet aux utilisateurs de contrôler et de surveiller le processus de pulvérisation en temps réel, permettant un contrôle précis des paramètres de pulvérisation tels que la vitesse de dépôt, le débit de gaz et la température du substrat. MRC Eclipse est conçu pour une gamme d'applications, y compris le dépôt en couches minces pour les cellules solaires, les écrans, la microscopie électronique, et plus encore. Les fonctionnalités avancées du modèle et les multiples capacités cibles le rendent adapté à la recherche de matériaux, au développement de procédés, à la production par lots et au contrôle de la qualité. Eclipse est également conçu pour être compatible avec une variété de substrats et de matériaux cibles, ce qui en fait un choix idéal pour de nombreux projets de dépôt en couches minces. MRC Eclipse est un équipement de pulvérisation fiable qui est conçu pour un dépôt précis et cohérent de couches minces. Il s'agit d'un choix idéal pour une variété d'applications, offrant aux utilisateurs des capacités de pulvérisation haute performance et un dépôt fin de précision. Le système est conçu pour une installation et un fonctionnement rapides et faciles, et le contrôleur avancé assure des opérations de pulvérisation précises et cohérentes. Eclipse est un excellent choix pour les chercheurs et les fabricants à la recherche d'une unité de pulvérisation fiable et efficace.
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