Occasion SEMICORE SC 1500 #104140 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 104140
In-line sputter system 3 target Sputter etch Load lock PC-PLC controlled.
SEMICORE SC 1500 est un puissant équipement de pulvérisation utilisé pour déposer des couches minces de matériaux sur les surfaces. Ce système est spécifiquement optimisé pour un matériau haut déposé sur une courte durée, ce qui lui confère un avantage dans le domaine de la production de revêtement. Il est composé d'une chambre de dépôt de pulvérisateurs, d'une alimentation électrique et d'une unité de traitement du gaz. La chambre de pulvérisation de SEMICORE est capable de fonctionner jusqu'à 1.000 degrés centigrades, avec un vide jusqu'à 10-9 torr qui est maintenu par la machine de pompage à vide entièrement automatisé. La chambre est également conçue pour traiter des sources multiples, qui permettent une flexibilité de procédé et le dépôt d'une variété de couches minces. L'alimentation utilisée pour SEMICORE SC1500 est le APS-625, fournissant une puissance constante jusqu'à 625 watts. Il est optimisé pour la pulvérisation d'impulsions et est équipé d'un générateur de fréquence qui permet de faire varier la largeur et la fréquence des impulsions. Le APS-625 est également capable de contrôler des sources multiples à l'intérieur de la chambre de pulvérisation. L'outil de manutention de gaz sur SC 1500 est équipé pour traiter jusqu'à quatre gaz à la fois. Ceci est rendu possible par son contrôleur de débit massique PC 3000, qui est interfacé avec le processus de dépôt automatisé, permettant un contrôle précis de l'actif. Les conduites de gaz sont en acier inoxydable et reliées à des vannes étanches pour assurer des niveaux de pureté. Le modèle est également livré avec un contrôle de la température pour les conduites de gaz et un équipement d'épuration des gaz pour la pureté des gaz. Globalement, SC1500 est un puissant système de pulvérisation capable de déposer des couches minces de matériaux sur des surfaces. Sa chambre de pulvérisation permet l'utilisation de sources multiples et l'alimentation est optimisée pour la pulvérisation d'impulsions. Il est également équipé d'une unité de traitement des gaz capable de traiter jusqu'à quatre gaz à la fois et dispose d'un régulateur de débit massique qui est interfacé avec le processus de dépôt automatisé. Cette machine est parfaite pour les applications de revêtement de production.
Il n'y a pas encore de critiques