Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD #9212338 à vendre en France

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ID: 9212338
Style Vintage: 2006
Sputtering system Missing parts: HX Dep chamber HX Loadlock cooling Cryo pump Dep bottom Cryo pump (Dep side) Robot arm (Bottom and top) Load lock assembly GENMARK Controller DC Generator (Dep) RF Generator (Etch) (5) Pentagon water hoses Ion-gauge (Dep) Ion-gauge (Etch) Pentagon motor Elevator motor Process robot motor Flow meter (Load lock) Flow meter (Pentagon) (4) ALCU Magnetrons Power: 120/208 V, 50/60 Hz, 3 Phase, 5 W, Maximum 150 Amps 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD (Physical Vapor Deposition) est un équipement de pulvérisation thermique conçu pour cibler une variété de matériaux et d'utilisations. Ces instruments de pointe sont dotés d'une technologie de haute précision qui permet d'améliorer les capacités des processus. Ce système de pulvérisation est conçu avec des TEM (Thin Film Elecron-Multiplicateur). Cette machine permet d'auto-corriger les erreurs de données d'entrée tout en maintenant la précision du plasma. Cette fonctionnalité permet d'améliorer les rendements des procédés, ce qui donne des produits d'électrode de meilleure qualité. Le PVD utilise également un design de chambre à haut rapport d'aspect unique. Cette conception offre un contrôle optimal de la dynamique de l'atmosphère de chambre sur la base de l'amélioration de l'uniformité des processus. La conception de la chambre facilite également des temps de pulvérisation plus rapides, permettant aux clients de maximiser les rendements et le débit par lots. TEL Nexx Nimbus PVD offre une large gamme d'électrodes multiples échangeables. Cette fonctionnalité offre aux clients une flexibilité dans la sélection des électrodes. Ces électrodes peuvent être personnalisées pour répondre à leurs besoins spécifiques, permettant aux clients d'optimiser leurs processus spécifiques pour différents matériaux. TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD dispose également d'un panneau de contrôle des opérations centralisé. Cette fonctionnalité permet de visualiser facilement l'état opérationnel et permet un diagnostic en temps réel. Cela permet aux utilisateurs d'effectuer un diagnostic rapide et un dépannage, minimisant ainsi les temps d'arrêt et maximisant le débit. En outre, Nexx Nimbus PVD dispose également d'une gamme complète d'options de processus, y compris : oxydation, nitridation, implantation ionique, gravure et diffusion. Cette polyvalence permet aux clients d'ajuster facilement les processus pour obtenir des résultats optimaux. En résumé, TEL/TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD est un outil de pulvérisation ultramoderne offrant une précision et un contrôle accrus. Cet actif de pointe dispose d'une conception de chambre unique, de plusieurs électrodes échangeables et d'une gamme d'options de processus. Toutes ces caractéristiques permettent d'améliorer le rendement et la production de produits de qualité.
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