Occasion TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Nimbus 364 #9202788 à vendre en France
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Vendu
ID: 9202788
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Sputtering system, 12"
Nimbus XP-RDL system (354): 8"/12"
Includes:
MAGNETRON: G1 HP (Ti)
MAGNETRON: G1 HP (W)
MAGNETRON: G1 HP (Al)
(3) MAGNETRONS : AL HP (Al)
ICP Etch
Second cryo pump: Deposition chamber
RF Substrate bias
Load lock degas
(2) ESC Trays: 12"
Additional cable length
EMO State
SECS/GEM
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 364 est un système de pulvérisation ultramoderne spécialement conçu pour les applications semi-conductrices et photoniques. Il permet un haut degré de contrôle des processus et de précision pour la fabrication de dispositifs composés-semi-conducteurs tels que LED, cellules solaires, écrans et capteurs d'image. Les procédés avancés de pulvérisation à courant continu et Hi-Bias RF de TEL Nimbus 364 offrent des capacités de traitement de pointe dans l'industrie. Il utilise Dynamic Process Control (DPC), une technologie avancée de pulvérisation qui permet de régler finement la quantité de dépôt en contrôlant l'amplitude de l'alimentation et la fréquence des impulsions de polarisation négative. Ce type de contrôle de processus assure la production de matériaux supérieurs avec une répétabilité constante des résultats. NEXX Nimbus 364 dispose également d'une alimentation à double fréquence, offrant un niveau de puissance élevé allant jusqu'à 480W tout en offrant la flexibilité d'un fonctionnement à deux fréquences. Cette double capacité permet de réduire l'incidence de l'arc lors du dépôt et donc d'améliorer la précision globale du procédé. De plus, la fonction de sécurité « Fenêtre » permet d'éviter des dommages au substrat ou aux pièces en cas de défaillance détectée au cours du processus. Le verrouillage de charge unique du système permet un chargement et un déchargement rapides et faciles du support de substrat, assurant des opérations rapides et efficaces. Le revêtement en carbone diamant améliore les performances de la chambre et du substrat, en améliorant la précision et la durabilité. La limite de température élevée est fixée à 368,2 ° C, ce qui permet une capacité thermique supérieure, tandis que le panneau de commande ergonomique pratique assure un contrôle tactile du processus. Nimbus 364 fournit aux opérateurs un processus de pulvérisation fiable et cohérent, conçu spécifiquement pour répondre aux exigences de l'application semiconductrice d'aujourd'hui. Avec ses capacités avancées de contrôle des processus, ses spécifications de matériaux supérieures et sa durabilité accrue, le système TOKYO ELECTRON Nimbus 364 est une solution efficace pour répondre aux besoins évolutifs de l'industrie des semi-conducteurs.
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