Occasion ULVAC CERAUS ZI 1000 #9207442 à vendre en France

ULVAC CERAUS ZI 1000 est un équipement de pulvérisation perfectionné conçu pour le dépôt de couches minces pour les applications semi-conductrices, MEMS et films épais. Ce système est conçu pour un contrôle précis de la couche et l'uniformité, et peut atteindre une précision d'épaisseur jusqu'à un seul nanomètre. L'unité est composée d'une source horizontale, d'une cible à la masse et d'une pompe turbo-moléculaire pour le contrôle du gaz et du vide. La source horizontale est constituée de deux pistolets magnétron indépendants et d'un substrat céramique fluoropolymère monobloc capable de suivre un profil de dépôt prédéterminé. La cible est une plaque conductrice de cuivre ou d'aluminium montée sur une base céramique isolante. La pression gazeuse est maintenue à la chambre de pulvérisation par la pompe turbo-moléculaire. Le procédé de pulvérisation proprement dit est un procédé de dépôt physique en phase vapeur (PVD) qui fait appel à des gaz ionisants pour générer un plasma dans la chambre de dépôt. Ce plasma est utilisé pour amener des ions dans le gaz de travail à frapper la cible à des vitesses élevées, libérant des atomes dans le substrat. En contrôlant la puissance de la source de pulvérisation, on peut contrôler la quantité de matière déposée et sa structure atomique. ULVAC CERAUS ZI-1000 offre un certain nombre de caractéristiques qui le rendent idéal pour le dépôt de couches minces. Il comporte un mécanisme d'obturation indépendant pour chaque source de pulvérisation, permettant un contrôle précis du dépôt. Il présente également un profil préprogrammable pour chaque source permettant un dépôt uniforme sur l'ensemble du substrat. Il dispose également d'une machine de détection d'orientation avancée qui lui permet de régler automatiquement la position de la source de pulvérisation pour que la cible reçoive la densité de puissance la plus élevée possible. De plus, l'outil de pulvérisation comporte un moniteur d'épaisseur de film, permettant un contrôle précis de l'épaisseur de la couche. Il dispose également d'un atout de surveillance de l'ionisation qui fournit une rétroaction en temps réel sur le processus de formation du plasma. Enfin, le modèle utilise des algorithmes avancés pour assurer le dépôt de couches uniformes à travers le substrat. CERAUS ZI 1000 est un choix idéal pour la pulvérisation de couches minces pour les applications semi-conductrices, MEMS et films épais. Ses fonctionnalités avancées lui permettent d'obtenir un contrôle précis des couches et une uniformité, tandis que son interface d'ingénierie intuitive le rend facile à utiliser. Avec sa détermination précise de l'épaisseur et son équipement sophistiqué de détection d'orientation, ce système assurera des résultats précis et cohérents dans le dépôt de couches minces.