Occasion ULVAC KS-300-1.5 #9110225 à vendre en France

ULVAC KS-300-1.5 Sputtering Equipment est un système de dépôt par plasma à haute performance qui utilise des électrons à haute énergie pour produire un revêtement de film uniforme, très uniforme et lisse. L'unité dispose d'une source de pulvérisation unique et d'une chambre à vide pour la génération d'un plasma. En outre, la machine est équipée d'une variété d'accessoires pour le traitement des semi-conducteurs, des métaux et d'autres matériaux. Le cœur de l'outil se compose d'une chambre à vide de 200 mm avec un contrôleur intégré et un affichage numérique. Il est capable d'atteindre des pressions allant jusqu'à 10 -3 Torr, avec une pression de base de 10-6 Torr. La source de pulvérisation est de l'aluminium recouvert de poudre, monté sur le dessus de la chambre à vide, et relié à une alimentation électrique. La source de pulvérisation utilise une configuration canon-cathode à deux pour réaliser un revêtement uniforme et très uniforme. Pour des raisons de commodité, l'actif comprend un modèle programmable d'alignement des cibles afin d'assurer un placement précis des cibles. De plus, l'équipement comprend des porte-cibles pour assurer un contact maximal entre la cible et le substrat. Le système est équipé de divers accessoires pour le traitement de divers matériaux. Il s'agit d'une cathode magnétron pour la création d'un plasma haute densité, d'un réchauffeur substrat pour le contrôle de la température du substrat, d'un actionneur obturateur pour le contrôle du substrat ainsi que pour le contrôle de l'énergie de bombardement ionique, et d'un régulateur de vitesse de balayage pour des dépôts de revêtement uniformes. De plus, l'unité comprend un contrôleur de température, des capteurs thermiques, des boîtiers de blindage et de l'équipement de caméra, pour un contrôle précis et précis du processus. ULVAC KS-300-1.5 est une machine polyvalente et performante, capable de revêtements très uniformes sur différents substrats. Il est capable de réaliser des films à petits grains, de haute qualité, avec une excellente répétabilité et uniformité de processus. C'est une excellente option pour les applications de dépôt dans l'industrie des semi-conducteurs.