Occasion ULVAC Z-1200 #293610444 à vendre en France

ULVAC Z-1200 est un équipement de pulvérisation de haute précision utilisé habituellement pour le dépôt avancé de couches minces. Il est conçu pour un contrôle supérieur de la vitesse de dépôt et de l'uniformité du film. Il offre une gamme complète de disciplines de dépôt physique en phase vapeur, y compris le plasma à couplage inductif (PIC) et la pulvérisation à courant continu (DC). Grâce à la technologie avancée de l'ultra-haute dépression (UHV), le dépôt de couches minces de haute qualité est réalisé. Z-1200 est équipé d'une source d'alimentation ULVAC en courant continu, qui produit des caractéristiques de sortie en courant continu avancées avec un arc faible, permettant un dépôt de haute précision sans retracement. Cette source d'énergie est capable de générer jusqu'à 1000 W de puissance, permettant des revêtements très conformes. La source d'énergie dispose également d'une régulation de température allant jusqu'à 1000 ° C et peut être actionnée par télécommande. En outre, ULVAC Z-1200 est équipé d'un module de jauge à vide, permettant la mise en place et le déplacement de jauge à l'intérieur de la chambre. Z-1200 est équipé de plusieurs sources de pulvérisation, permettent aux utilisateurs d'avoir plusieurs processus réactifs pour créer le dépôt de couche mince parfait. En plus de la pulvérisation à courant continu, le système comporte à la fois une pulvérisation ionisée et non ionisée, des dépôts métalliques et céramiques, et des fonctions magnétiques contrôlées avec précision pour un contrôle supérieur de la vitesse de dépôt et de l'uniformité des films. L'unité est composée de deux composants principaux, la chambre principale et la sous-chambre. La chambre principale permet UHV avec une pression de base de 3 × 10-10 torr. A l'intérieur se trouve une table tournante pour activer plusieurs sources de pulvérisation. La sous-chambre est l'endroit où le plasma est généré et créé. Cette conception permet à ULVAC Z-1200 de mélanger différents gaz pour la production de plasma. Z-1200 a également une capacité de chauffage avec deux pompes de diffusion thermique et l'option d'un chauffage en céramique. Le contrôle des procédés refroidis à l'eau est également présent sur la machine, ce qui permet un contrôle précis et efficace de la température. De plus, l'outil dispose d'un miroir déformable et d'un ioniseur de dépôt (DMI/DMAI) qui le rendent idéal pour un dépôt atomiquement conforme. ULVAC Z-1200 est un actif puissant et polyvalent de pulvérisation par pulvérisation qui offre un dépôt avancé en couches minces avec de multiples disciplines physiques de dépôt en phase vapeur. Le modèle est composé de composants de haute précision, offrant un contrôle supérieur de la vitesse de dépôt et de l'uniformité du film, ainsi que la technologie UHV sophistiquée pour les revêtements hautement conformes. Cet équipement puissant est le choix idéal pour les laboratoires de recherche et développement qui exigent la plus grande précision dans leurs dépôts de couches minces.