Occasion ULVAC Zi-1000 #9128730 à vendre en France

ULVAC Zi-1000 est un équipement de pulvérisation ultramoderne multifonctionnel conçu pour le dépôt de couches minces de haute précision. Ce système dispose d'une technique ultra-stable de pulvérisation directe en boucle fermée, permettant un contrôle précis du processus de dépôt, et une excellente uniformité des films sur de grandes surfaces. L'unité utilise une technologie avancée de pulvérisation à courant continu ou à PF qui offre des niveaux de puissance de pulvérisation faibles, permettant le dépôt de films à faible résistance avec des effets indésirables minimes tels que la diffusion d'impuretés ou de rugosité. La configuration avancée multi-cibles à cinq poches permet une flexibilité maximale et une grande stabilité de la vitesse de pulvérisation. Avec les alimentations indépendantes pour chaque position de pulvérisation, différents types de films peuvent être produits simultanément ; ceci est particulièrement bénéfique pour les films multicouches. Le puissant processeur numérique permet à l'utilisateur de contrôler facilement tous les paramètres, effectuant des dépôts uniformes et reproductibles. Il fournit également des mesures de profil de plaquettes pour assurer le dépôt de film de précision dans certains niveaux de tolérance. En outre, une machine de contrôle de gaz avancée fournit un mélange précis de divers gaz de procédé pour assurer une grande uniformité du dépôt de couches minces. Zi-1000 dispose d'un outil de verrouillage de charge intégré qui peut introduire plusieurs substrats sous contrôle à distance ou manuel et les protéger de l'oxydation pendant le processus de dépôt. L'actif est équipé d'un générateur de tension de polarisation RF, qui peut produire une tension de polarisation jusqu'à 5kV pour divers dépôts. La fonctionnalité et la flexibilité supérieures d'ULVAC Zi-1000 en font un modèle de dépôt idéal pour les laboratoires de recherche et développement, ainsi que pour les applications industrielles. Ses fonctionnalités avancées permettent à l'utilisateur de produire rapidement des films minces avec une excellente uniformité, et des propriétés de précision, d'intégrité et d'adhérence supérieures. De plus, sa conception supérieure permet des processus de dépôt rapides, précis et reproductibles sur une grande variété de substrats.