Occasion VARIAN 3125 #38005 à vendre en France

VARIAN 3125 Ion Source Sputter Equipment est un système de pulvérisation à l'échelle du laboratoire utilisé dans le revêtement de surface de substrats utilisant des gaz inertes ou réactifs. Il est capable de graver, déposer et allier des matériaux de poids atomique faible ou élevé au substrat. 3125 est une solution de haute qualité et rentable pour les applications de revêtement des pulvérisateurs de laboratoire et peut être utilisée pour la production à petite échelle dans une variété d'expériences à base de pulvérisateurs. VARIAN 3125 dispose d'un contrôleur d'énergie ionique pour un réglage précis et précis de l'énergie. Il dispose également d'une grande zone cathodique et d'un puissant canon rotatif magnétron pulvérisateur. Ce canon permet le déplacement du substrat dans n'importe quelle direction, assurant ainsi une couverture complète et homogène de la cible. De plus, 3125 a une pression de vide de 10-2 mBar et un temps de pompage de ~ 10 minutes. L'unité est composée de plusieurs composants, dont un module de pompage à vide élevé, une cryopump, et un poste de mesure du vide avec machine manuelle de commande de dépassement. De plus, l'unité dispose d'une alimentation refroidie par air, avec une polarisation positive et négative réglable. En outre, VARIAN 3125 dispose d'un outil de contrôle manuel, avec la capacité pour l'opérateur de personnaliser les paramètres du processus de pulvérisation. La polyvalence 3125 est adaptée aux procédés de pulvérisation à courant continu et RF. Il est également capable de pulvériser à partir d'un large éventail de métaux, de nitrures, d'oxydes et d'alliages. L'actif permet de pulvériser des substrats cibles rotatifs, y compris des substrats céramiques, en verre et en cire rigide, ainsi que des substrats souples et non plats. Divers paramètres sont disponibles pour l'utilisateur afin de personnaliser son processus de pulvérisation, y compris les niveaux de puissance DC/RF, les débits, le temps et les paramètres de refroidissement. VARIAN 3125 permet également de faire tourner magnétiquement les échantillons pendant le processus. Cette rotation améliore l'homogénéité du dépôt. 3125 Ion Source Sputter Model est une solution efficace et conviviale pour les applications de production en laboratoire et à petite échelle. Il permet à l'utilisateur de personnaliser son processus en fonction de ses besoins spécifiques. Son optimisation et sa stabilité lui permettent d'être utilisé de manière fiable dans diverses applications de pulvérisation.