Occasion VARIAN 3125 #9082989 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9082989
Horizonatal Resistance Source Deposition System, parts system Includes: Planetary, resistance sources Substrate heater controller Resistance deposition controller Ion gauge Rotation controller Quartz film thickness controller Shutter controller.
VARIAN 3125 est un Sputter Ion Pump (SIP) conçu pour fournir aux chercheurs un équipement plasma de laboratoire exceptionnellement à faible budget. Ce système est connu comme une unité « micro-plasma » en raison de sa taille, et est idéal pour la recherche qui nécessite un contrôle très fin sur les paramètres de dépôt. La machine comprend une pompe ionique à pulvérisateur 3125 avec une anode d'or, une source de cuivre (cible) et une distance cible-substrat de 4mm. Le SIP est conçu pour produire du plasma à basse énergie pour pulvériser des espèces de gaz ionisés (comme l'hydrogène ou l'azote) sur un échantillon de substrat. Ce procédé transfère du matériau de la cible vers le substrat en le recouvrant d'une fine couche uniforme. L'outil fonctionne avec une variété de paramètres. La tension d'anode détermine l'énergie ionique émise et la densité du courant d'émission thermionique, tandis que la tension de source contrôle le processus de décharge de l'électrode cible. La distance entre le substrat et la cible régit la vitesse des ions générés et donc la proportion de matériau cible atteignant le substrat. VARIAN 3125 est un actif sous pression en cycle fermé, ce qui signifie qu'aucun gaz extérieur n'est nécessaire à l'exploitation et qu'il n'y a aucun risque de contamination pour l'échantillon. Cela élimine également la nécessité d'un entretien et d'un rechargement coûteux et longs des approvisionnements en gaz. Le modèle est capable d'une action fiable des pulvérisateurs sur une plage de 0-2 mm de distance cible-substrat, avec une distance maximale recommandée de 4 mm pour un seul dépôt cible. Le 3125 est particulièrement utile lors du dépôt de matières à basse température, à faible masse et à faible teneur sur un échantillon sans risque d'endommagement ou de contamination. Par exemple, l'équipement est souvent utilisé pour déposer des revêtements d'échantillons sur divers substrats dont du verre, de la céramique et des alliages. En outre, ce système est fortement recommandé pour le dépôt à l'échelle nanométrique ou le réglage fin des propriétés électriques et optiques des échantillons. VARIAN 3125 Sputter Ion Pump est une unité compacte avec des caractéristiques précises qui la rendent idéale pour les applications de recherche qui nécessitent des performances de pointe avec un faible budget. Sa petite taille, son large éventail de paramètres de fonctionnement et son processus de pulvérisation fiable en font un outil précieux pour les laboratoires de recherche du monde entier.
Il n'y a pas encore de critiques