Occasion VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730 #124470 à vendre en France

VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730 est un outil polyvalent de dépôt de couches minces utilisé pour la formation de couches minces avec des compositions chimiques complexes pour diverses applications. TEL MB2-730 utilise la pulvérisation magnétron, qui utilise un plasma confiné magnétiquement pour pulvériser du matériau de dépôt sur un substrat. Ce procédé de pulvérisation est très contrôlable, ce qui permet au système de créer des dépôts en couches minces avec un contrôle précis de la composition, des matériaux simples aux matériaux complexes. En contrôlant la quantité et le type de cibles dans chaque chambre, une large gamme de matériaux peut être déposée par pulvérisation. VARIAN MB2-730 est composé de deux chambres de 1 000 mm x 900 mm. La première chambre, la chambre de pulvérisation, utilise la pulvérisation magnétron à courant continu (DC) à l'aide de trois cibles magnétron cylindriques. La deuxième chambre, la chambre IOX/CVD, utilise la pulvérisation magnétron par radiofréquence (RF) pour déposer des films d'oxyde et de nitrure, et comporte également quatre cibles de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). En outre, cette unité comporte une plaque de chauffage/refroidissement amovible, permettant de contrôler la température du substrat lors du dépôt. Cette plaque permet également un meilleur contrôle des dépôts, permettant à la machine d'effectuer des traitements thermiques in situ et un recuit rapide. MB2-730 outil dispose également d'un actif entièrement automatisé qui contrôle le processus de dépôt. TOKYO ELECTRON MB2-730 dispose d'un contrôleur de processus programmable (PPC) avec 20 recettes disponibles, permettant d'obtenir des résultats précis et reproductibles. De plus, le modèle est équipé d'une interface utilisateur graphique (interface graphique) basée sur PC, qui permet un contrôle facile et intuitif des paramètres de dépôt. En conclusion, l'équipement de pulvérisation VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730 est un excellent outil pour créer des films minces avec des compositions chimiques complexes. Son processus de dépôt polyvalent, ses capacités de contrôle de la température et son système de contrôle automatisé le rendent parfait pour diverses applications de dépôt en couches minces.